| 中文摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-14页 |
| ·研究背景 | 第9-11页 |
| ·研究的目的和意义 | 第11-12页 |
| ·主要研究内容 | 第12-14页 |
| 第2章 金刚石及 CVD 金刚石膜综述 | 第14-40页 |
| ·金刚石的晶体结构和主要性质 | 第14-24页 |
| ·金刚石的晶体结构 | 第14-18页 |
| ·金刚石的主要性质 | 第18-19页 |
| ·纳米金刚石薄膜的性能 | 第19-20页 |
| ·纳米金刚石薄膜的研究现状 | 第20-22页 |
| ·纳米金刚石薄膜的发展趋势和应用前景 | 第22-24页 |
| ·CVD 金刚石膜的形核与生长理论 | 第24-36页 |
| ·低压气相合成金刚石的基本过程 | 第24-28页 |
| ·低压下气相生长金刚石薄膜的理论模型 | 第28-34页 |
| ·纳米金刚石膜的C2 基团生长模型理论 | 第34-36页 |
| ·CVD 金刚石膜的制备方法 | 第36-40页 |
| ·CVD 金刚石膜制备的常规工艺条件 | 第36-37页 |
| ·CVD 金刚石膜的制备方法 | 第37-40页 |
| 第3章 气体放电理论、实验设备、实验和测试方法 | 第40-54页 |
| ·直流热阴极等离子体放电理论与直流热阴极PCVD 装置 | 第40-49页 |
| ·直流辉光放电理论 | 第40-44页 |
| ·直流热阴极PCVD 装置 | 第44-45页 |
| ·直流热阴极PCVD 装置主要放电参数的变化规律 | 第45-49页 |
| ·实验方法 | 第49-54页 |
| ·直流热阴极PCVD 方法间歇式生长模式 | 第49-50页 |
| ·直流热阴极PCVD 法间歇生长模式的生长参数及工艺 | 第50-51页 |
| ·测试方法 | 第51-54页 |
| 第4章 人工干预诱导二次形核的机理分析 | 第54-65页 |
| ·引言 | 第54-56页 |
| ·实验与结果 | 第56-59页 |
| ·分析与讨论 | 第59-65页 |
| 第5章 间歇生长模式制备纳米金刚石膜研究 | 第65-100页 |
| ·生长和间歇周期对间歇生长模式制备纳米金刚石膜的影响 | 第65-76页 |
| ·实验方法 | 第65-66页 |
| ·实验结果与分析 | 第66-76页 |
| ·反应压强对间歇生长模式制备纳米金刚石膜的影响 | 第76-79页 |
| ·实验方法 | 第76页 |
| ·实验结果与分析 | 第76-79页 |
| ·温度对间歇生长模式制备纳米金刚石膜的影响 | 第79-82页 |
| ·实验方法 | 第79页 |
| ·实验结果与分析 | 第79-82页 |
| ·氩气含量对间歇生长模式制备纳米金刚石膜的影响 | 第82-87页 |
| ·实验方法 | 第83页 |
| ·实验结果与分析 | 第83-87页 |
| ·氮气含量对间歇生长模式制备纳米金刚石膜的影响 | 第87-92页 |
| ·实验方法 | 第87页 |
| ·实验结果与分析 | 第87-92页 |
| ·甲烷浓度对间歇生长模式制备纳米金刚石膜的影响 | 第92-98页 |
| ·实验方法 | 第92-93页 |
| ·实验结果与分析 | 第93-98页 |
| ·本章小结 | 第98-100页 |
| 结论 | 第100-102页 |
| 参考文献 | 第102-109页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第109-110页 |
| 致谢 | 第110页 |
