| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·金刚石的结构 | 第10-12页 |
| ·本征金刚石的结构 | 第10-11页 |
| ·掺硼金刚石的结构 | 第11-12页 |
| ·掺硼金刚石膜的制备方法 | 第12-14页 |
| ·掺硼金刚石膜的性能及应用 | 第14-15页 |
| ·掺硼金刚石膜电学性能及应用 | 第14页 |
| ·掺硼金刚石膜电化学性能及应用 | 第14-15页 |
| ·论文的选题意义及主要研究内容 | 第15-17页 |
| 第2章 直流热阴极CVD 设备及金刚石膜的合成原理 | 第17-21页 |
| ·直流热阴极CVD 设备简介 | 第17-19页 |
| ·设备结构 | 第17-18页 |
| ·操作流程 | 第18-19页 |
| ·直流热阴极CVD 法合成金刚石的原理 | 第19-20页 |
| ·本章小结 | 第20-21页 |
| 第3章 掺硼金刚石膜的制备工艺 | 第21-41页 |
| ·掺硼金刚石膜的制备过程 | 第21-23页 |
| ·硼源的选择 | 第21页 |
| ·预处理 | 第21页 |
| ·制备过程及表征手段 | 第21-23页 |
| ·硼酸三甲酯流量对金刚石膜生长特性的影响 | 第23-33页 |
| ·气体辉光放电分析 | 第23-25页 |
| ·硼酸三甲酯流量对掺硼金刚石膜表面形貌及其品质的影响 | 第25-27页 |
| ·掺硼金刚石膜的Raman 光谱分析 | 第27-30页 |
| ·利用XRD 对掺硼金刚石膜进行表征 | 第30-32页 |
| ·硼酸三甲酯流量对掺硼金刚石膜电阻率的影响 | 第32-33页 |
| ·基片温度对掺硼金刚石膜生长特性的影响 | 第33-37页 |
| ·利用SEM 和AFM 分析基片温度对掺硼金刚石生长特性的影响 | 第33-35页 |
| ·利用Raman 光谱分析基片温度对掺硼金刚石膜生长特性的影响 | 第35-36页 |
| ·利用XRD 分析基片温度对掺硼金刚石生长特性的影响 | 第36-37页 |
| ·反应气压对掺硼金刚石膜生长特性的影响 | 第37-39页 |
| ·本章小结 | 第39-41页 |
| 第4章 掺硼金刚石膜电化学特性及其在污水处理中的应用 | 第41-51页 |
| ·利用循环伏安法对电极的研究 | 第41-47页 |
| ·循环伏安法测试体系简介 | 第41-42页 |
| ·实验仪器与试剂 | 第42页 |
| ·BDD 电极的电势窗口 | 第42-45页 |
| ·BDD 电极的析氧电位 | 第45-46页 |
| ·BDD 电极的稳定性 | 第46-47页 |
| ·BDD 电极在污水处理中的应用 | 第47-49页 |
| ·降解硝基苯反应器的设计 | 第48页 |
| ·硝基苯降解实验 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-51页 |
| 结论 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第57页 |
