| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-14页 |
| ·文献综述 | 第9-13页 |
| ·ZnO 的性质及特点 | 第9-10页 |
| ·制备p 型ZnO 的意义 | 第10-11页 |
| ·ZnO p 型掺杂的方法 | 第11页 |
| ·国内外p 型ZnO 的研究情况 | 第11-13页 |
| ·本论文的研究目的 | 第13-14页 |
| 第2章 ZnO 薄膜的制备方法和性能表征手段 | 第14-20页 |
| ·ZnO 薄膜的制备方法 | 第14-15页 |
| ·溶胶一凝胶法(sol-gel) | 第14页 |
| ·金属有机物化学气相沉积法(MOCVD) | 第14页 |
| ·喷雾热解方法(spray pyrolysis) | 第14-15页 |
| ·脉冲激光沉积法(PLD) | 第15页 |
| ·分子束外延法(MBE) | 第15页 |
| ·本实验采用的制备方法——溅射法 | 第15-17页 |
| ·溅射的基本原理 | 第15-16页 |
| ·溅射沉积的分类 | 第16页 |
| ·实验设备 | 第16-17页 |
| ·ZnO 薄膜性能表征手段 | 第17-19页 |
| ·X 射线衍射分析(XRD) | 第17-18页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第18页 |
| ·霍尔效应测试(Hall) | 第18页 |
| ·紫外分光光度计 | 第18-19页 |
| ·拉曼光谱仪(Raman) | 第19页 |
| ·本章小结 | 第19-20页 |
| 第3章 衬底温度对氮掺杂ZnO 薄膜性能的影响 | 第20-27页 |
| ·引言 | 第20-21页 |
| ·衬底的预处理 | 第21页 |
| ·样品制备工艺参数 | 第21-22页 |
| ·结果与讨论 | 第22-26页 |
| ·表面形貌 | 第22-23页 |
| ·XRD 分析 | 第23-24页 |
| ·hall 分析 | 第24-25页 |
| ·透射光谱 | 第25-26页 |
| ·本章小结 | 第26-27页 |
| 第4章 退火温度对氮掺杂ZnO 薄膜性能的影响 | 第27-38页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·退火处理模型 | 第27-29页 |
| ·衬底的预处理 | 第29页 |
| ·样品制备工艺参数 | 第29-30页 |
| ·结果与讨论 | 第30-36页 |
| ·表面形貌 | 第30-31页 |
| ·XRD 分析 | 第31-32页 |
| ·hall 分析 | 第32-33页 |
| ·透射光谱 | 第33-35页 |
| ·Raman 光谱分析 | 第35-36页 |
| ·退火对氮掺杂ZnO 薄膜p 型形成机制影响的探讨 | 第36页 |
| ·本章小结 | 第36-38页 |
| 第5章 不同掺氮量对ZnO 薄膜性能的影响 | 第38-45页 |
| ·引言 | 第38页 |
| ·衬底的预处理 | 第38页 |
| ·样品制备工艺参数 | 第38-39页 |
| ·结果与讨论 | 第39-44页 |
| ·表面形貌 | 第39-40页 |
| ·XRD 分析 | 第40-41页 |
| ·Hall 分析 | 第41-42页 |
| ·Raman 分析 | 第42-43页 |
| ·透射光谱 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 结论 | 第45-47页 |
| 参考文献 | 第47-52页 |
| 致谢 | 第52页 |