水对等离子体射流的调控机理与诊断及其应用
| 中文摘要 | 第3-4页 |
| 英文摘要 | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 课题的研究背景及意义 | 第8-9页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第9-16页 |
| 1.2.1 等离子体射流分类 | 第9-11页 |
| 1.2.2 工作气体含水等离子体射流研究现状 | 第11-15页 |
| 1.2.3 环境含水等离子体射流研究现状 | 第15-16页 |
| 1.3 本论文研究主要内容 | 第16-18页 |
| 2 等离子体射流参数诊断 | 第18-30页 |
| 2.1 发射光谱法 | 第18-27页 |
| 2.1.1 气体温度 | 第18-21页 |
| 2.1.2 电子激发温度 | 第21-22页 |
| 2.1.3 振动温度 | 第22-24页 |
| 2.1.4 电子密度 | 第24-27页 |
| 2.2 吸收光谱法 | 第27-30页 |
| 2.2.1 基本原理 | 第27页 |
| 2.2.2 ·OH吸收光谱检测 | 第27-28页 |
| 2.2.3 O_3稳态产物吸收光谱检测 | 第28-30页 |
| 3 预电离辅助含水微空心阴极放电研究 | 第30-58页 |
| 3.1 含水预电离微空心阴极放电射流源 | 第30-34页 |
| 3.1.1 实验系统设计 | 第30-33页 |
| 3.1.2 放电模式研究 | 第33-34页 |
| 3.2 含水预电离微空心阴极放电宏观特性 | 第34-44页 |
| 3.2.1 射流长度的影响因素 | 第34-39页 |
| 3.2.2 射流温度的影响因素 | 第39-44页 |
| 3.3 含水预电离微空心阴极放电产物研究 | 第44-56页 |
| 3.3.1 放电模式对含水射流产物影响研究 | 第44-45页 |
| 3.3.2 ·OH发射强度的变化规律 | 第45-47页 |
| 3.3.3 O发射强度的变化规律 | 第47-50页 |
| 3.3.4 NO发射强度的变化规律 | 第50-52页 |
| 3.3.5 O_3相对含量的变化规律 | 第52-53页 |
| 3.3.6 实验结果分析 | 第53-56页 |
| 3.4 本章小结 | 第56-58页 |
| 4 环境含水量对Ar射流及材料改性研究 | 第58-74页 |
| 4.1 实验测试系统的搭建 | 第58-60页 |
| 4.2 环境含水量对Ar等离子射流参数影响研究 | 第60-65页 |
| 4.2.1 环境含水量对·OH含量的影响 | 第60-62页 |
| 4.2.2 环境含水量对O原子的影响 | 第62-63页 |
| 4.2.3 环境含水量对电子激发温度的影响 | 第63页 |
| 4.2.4 环境含水量对电子密度的影响 | 第63-64页 |
| 4.2.5 环境含水量对Ar发射强度的影响 | 第64页 |
| 4.2.6 实验结果分析 | 第64-65页 |
| 4.3 Ar等离子射流材料改性研究 | 第65-73页 |
| 4.3.1 材料处理方法和步骤 | 第65-66页 |
| 4.3.2 接触角测量 | 第66-68页 |
| 4.3.3 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第68-71页 |
| 4.3.4 扫描电子显微镜(SEM)测量 | 第71-73页 |
| 4.4 本章小结 | 第73-74页 |
| 5 结论与展望 | 第74-76页 |
| 5.1 本文主要结论 | 第74-75页 |
| 5.2 后续工作与展望 | 第75-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |
| 参考文献 | 第78-86页 |
| 附录 | 第86页 |
| A.作者在攻读硕士学位期间发表的论文目录 | 第86页 |
| B.作者在攻读硕士学位期间参加的科研项目目录 | 第86页 |
