| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 引言 | 第9-19页 |
| 1.1 纳米材料简介 | 第9页 |
| 1.2 二维材料的蓬勃发展 | 第9-11页 |
| 1.3 稀磁半导体简介 | 第11-13页 |
| 1.3.1 三维稀磁半导体 | 第11-12页 |
| 1.3.2 二维稀磁半导体 | 第12-13页 |
| 1.4 硒化锡 | 第13-17页 |
| 1.5 本文主要的研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 研究方法简介 | 第19-31页 |
| 2.1 第一性原理计算方法 | 第19-24页 |
| 2.1.1 哈特里-福克(Hartree-Fock)近似 | 第19-21页 |
| 2.1.2 密度泛函理论 | 第21页 |
| 2.1.3 Hohenberg-Kohn定理 | 第21-22页 |
| 2.1.4 Khon-Sham方程 | 第22-23页 |
| 2.1.5 交换关联泛函 | 第23-24页 |
| 2.2 磁相互作用—磁性理论的发展简介 | 第24-29页 |
| 2.2.1 直接交换作用 | 第25-26页 |
| 2.2.2 超相互作用 | 第26-27页 |
| 2.2.3 双交换作用理论 | 第27-28页 |
| 2.2.4 RKKY相互作用理论 | 第28-29页 |
| 2.3 配位场理论 | 第29-30页 |
| 2.4 计算软件介绍 | 第30-31页 |
| 第3章 钒、铬、锰掺杂二维硒化锡的磁性征及其调控 | 第31-41页 |
| 3.1 引言 | 第31页 |
| 3.2 计算方法与模型 | 第31-32页 |
| 3.3 计算结果与分析 | 第32-40页 |
| 3.3.1 钒、铬、锰掺杂二维硒化锡的稳定性 | 第33-36页 |
| 3.3.2 TM@Sn(TM=V,Cr,Mn)的磁性分析 | 第36-37页 |
| 3.3.3 外加电场对TM@Sn(TM=V,Cr,Mn)磁性的调制 | 第37-40页 |
| 3.4 本章结论 | 第40-41页 |
| 第4章 铁、钴、镍掺杂二维硒化锡的磁性特征及其调控 | 第41-48页 |
| 4.1 铁、钻、镍掺杂二维硒化锡的稳定性 | 第41-43页 |
| 4.2 TM@Sn(TM=Fe,Co,Ni)的磁性分析 | 第43-44页 |
| 4.3 外加电场对TM@Sn(TM=Fe,Co,Ni)磁性的调制 | 第44-47页 |
| 4.4 本章结论 | 第47-48页 |
| 第5章 总结与展望 | 第48-50页 |
| 5.1 总结 | 第48-49页 |
| 5.2 展望 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-55页 |
| 致谢 | 第55-56页 |
| 个人简历、在校期间完成论文和科研情况 | 第56页 |
