| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-18页 |
| 1.1 太赫兹背景介绍 | 第11-12页 |
| 1.2 目前太赫兹技术研究进展 | 第12页 |
| 1.3 太赫兹技术相关应用 | 第12-14页 |
| 1.3.1 国防应用 | 第13页 |
| 1.3.2 太赫兹成像技术 | 第13页 |
| 1.3.3 生物医学技术 | 第13页 |
| 1.3.4 天文学探测 | 第13-14页 |
| 1.3.5 安全检测技术 | 第14页 |
| 1.4 太赫兹探测技术 | 第14-16页 |
| 1.4.1 太赫兹直接探测技术 | 第14-15页 |
| 1.4.2 连续太赫兹波外差法探测技术 | 第15页 |
| 1.4.3 太赫兹波时域光谱技术 | 第15-16页 |
| 1.5 本论文研究重点及内容 | 第16-18页 |
| 第二章 复合材料及薄膜的制备测试工艺 | 第18-26页 |
| 2.1 复合材料简介 | 第18页 |
| 2.2 原位复合简介 | 第18-19页 |
| 2.3 薄膜制备方式 | 第19-20页 |
| 2.3.1 旋涂法 | 第19页 |
| 2.3.2 喷墨打印法 | 第19页 |
| 2.3.3 有机蒸汽喷印法 | 第19-20页 |
| 2.3.4 有机气相沉积法 | 第20页 |
| 2.4 薄膜的制备及清洗 | 第20-22页 |
| 2.4.1 制备薄膜仪器 | 第20-21页 |
| 2.4.2 基片表面处理 | 第21-22页 |
| 2.4.3 铝电极的制备 | 第22页 |
| 2.5 复合薄膜的测试表征 | 第22-25页 |
| 2.5.1 金相显微镜 | 第22页 |
| 2.5.2 扫描电子显微镜 | 第22-23页 |
| 2.5.3 透射电子显微镜 | 第23-24页 |
| 2.5.4 X射线衍射图谱 | 第24页 |
| 2.5.5 傅里叶红外光谱 | 第24页 |
| 2.5.6 紫外可见光光谱 | 第24页 |
| 2.5.7 拉曼光谱 | 第24-25页 |
| 2.5.8 电阻温度系数 | 第25页 |
| 2.6 本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 DAST及复合材料的合成、制备与组分分析 | 第26-32页 |
| 3.1 DAST材料及DAST-石墨烯复合材料合成的主要试剂及仪器 | 第26页 |
| 3.2 DAST材料的合成步骤 | 第26-27页 |
| 3.3 DAST-石墨烯复合材料的制备 | 第27-30页 |
| 3.4 DAST薄膜的制备 | 第30页 |
| 3.5 复合薄膜的制备 | 第30页 |
| 3.6 DAST材料的组分分析 | 第30-31页 |
| 3.6.1 DAST元素分析 | 第30-31页 |
| 3.6.2 DAST远红外分析 | 第31页 |
| 3.7 本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 DAST-石墨烯复合薄膜的测试及表征 | 第32-49页 |
| 4.1 金相显微镜表征及分析 | 第32-34页 |
| 4.2 扫描电子显微镜表征及分析 | 第34-35页 |
| 4.3 透射电子显微镜表征及分析 | 第35-37页 |
| 4.4 X射线衍射测试及分析 | 第37-38页 |
| 4.5 中红外光谱测试及分析 | 第38-40页 |
| 4.6 远红外光谱测试及分析 | 第40-41页 |
| 4.7 紫外可见光光谱测试及分析 | 第41-44页 |
| 4.8 薄膜电学性能测试及分析 | 第44-45页 |
| 4.9 拉曼光谱测试及分析 | 第45-46页 |
| 4.10 讨论 | 第46-48页 |
| 4.11 本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 石墨烯浓度对复合薄膜的影响研究 | 第49-58页 |
| 5.1 石墨烯浓度对复合薄膜的表面形貌的影响研究 | 第49-51页 |
| 5.2 不同DAST-石墨复合膜的中红外光谱研究 | 第51-53页 |
| 5.3 不同DAST-石墨烯复合膜的紫外-可见光光谱研究 | 第53-54页 |
| 5.4 石墨烯浓度对复合薄膜的电学性能的影响研究 | 第54-57页 |
| 5.5 本章小结 | 第57-58页 |
| 第六章 结论与展望 | 第58-60页 |
| 6.1 结论 | 第58-59页 |
| 6.2 展望 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-69页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第69-70页 |