| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第9-10页 |
| 1.2 铝合金的分类、应用及其表面处理技术 | 第10-14页 |
| 1.2.1 铝合金的分类 | 第10-11页 |
| 1.2.1.1 铝合金系 | 第10页 |
| 1.2.1.2 铝及其合金特点 | 第10-11页 |
| 1.2.2 铝合金的应用 | 第11页 |
| 1.2.3 铝合金表面处理技术 | 第11-14页 |
| 1.2.3.1 化学氧化法 | 第12页 |
| 1.2.3.2 阳极氧化法 | 第12-13页 |
| 1.2.3.3 热喷涂 | 第13-14页 |
| 1.2.3.4 电镀 | 第14页 |
| 1.2.3.5 激光熔覆 | 第14页 |
| 1.3 铝合金微弧氧化技术的发展历程 | 第14-19页 |
| 1.3.1 国外微弧氧化技术的发展历程 | 第15-18页 |
| 1.3.2 国内微弧氧化技术的发展历程 | 第18-19页 |
| 1.4 目前微弧氧化技术存在的问题 | 第19页 |
| 1.5 本课题研究内容及目的 | 第19-21页 |
| 2 微弧氧化实验研究方法 | 第21-27页 |
| 2.1 实验样品的制备和实验装置 | 第21-22页 |
| 2.1.1 实验样品的制备 | 第21页 |
| 2.1.2 实验试剂 | 第21-22页 |
| 2.1.3 实验装置 | 第22页 |
| 2.2 微弧氧化电解液参数和电参数的选择 | 第22-24页 |
| 2.2.1 电解液参数的选择 | 第22-23页 |
| 2.2.2 电参数的选择 | 第23-24页 |
| 2.3 微弧氧化实验的技术路线 | 第24-25页 |
| 2.4 微弧氧化膜层的性能表征 | 第25-26页 |
| 2.5 本章小结 | 第26-27页 |
| 3 微弧氧化膜层的电参数优化实验 | 第27-36页 |
| 3.1 电参数优化的正交实验设计 | 第27-28页 |
| 3.2 正交实验设计的极差分析 | 第28页 |
| 3.3 微弧氧化膜层的微观形貌分析 | 第28-31页 |
| 3.4 微弧氧化膜层的截面形貌分析 | 第31-32页 |
| 3.5 以膜层厚度和孔隙率为指标的正交实验结果分析 | 第32-34页 |
| 3.6 综合平衡结果 | 第34-35页 |
| 3.7 本章小结 | 第35-36页 |
| 4 基于C | 第36-43页 |
| 4.1 软件的需求分析 | 第36页 |
| 4.2 数据通讯接口和传输协议 | 第36-38页 |
| 4.3 基于C | 第38-42页 |
| 4.3.1 基于SerialPort类串口通信的实现 | 第39-40页 |
| 4.3.2 基于Timer控件分段控制正向电压的实现 | 第40-42页 |
| 4.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 5 微弧氧化反应中正向电压的分段控制 | 第43-51页 |
| 5.1 正向电压分段控制的实现方式 | 第43-45页 |
| 5.2 微弧氧化陶瓷膜层的微观形貌分析 | 第45-47页 |
| 5.3 以陶瓷膜层厚度和孔隙率为指标的正交实验结果分析 | 第47-50页 |
| 5.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 6 总结与展望 | 第51-53页 |
| 6.1 总结 | 第51-52页 |
| 6.2 展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及专利 | 第58-59页 |
