基于叠前逆时偏移方法的圆管损伤识别
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-15页 |
| 1.1 课题背景 | 第8-9页 |
| 1.2 用于管结构检测的超声导波方法 | 第9-13页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第9-11页 |
| 1.2.2 国内研究与应用现状 | 第11-13页 |
| 1.2.3 国内外文献综述 | 第13页 |
| 1.3 本文开展的工作 | 第13-15页 |
| 第2章 管中导波的位移分布 | 第15-37页 |
| 2.1 引言 | 第15页 |
| 2.2 空心圆管中的导波 | 第15-16页 |
| 2.3 空心圆柱体中的频率方程 | 第16-20页 |
| 2.4 导波模态分析 | 第20-25页 |
| 2.4.1 扭转模态 | 第20-23页 |
| 2.4.2 纵向模态 | 第23-24页 |
| 2.4.3 弯曲模态 | 第24-25页 |
| 2.5 频散曲线 | 第25-27页 |
| 2.6 简正模态展开法 | 第27-36页 |
| 2.6.1 完备性与正交性 | 第27-28页 |
| 2.6.2 简正模态展开法 | 第28-30页 |
| 2.6.3 导波幅值大小 | 第30-34页 |
| 2.6.4 位移场分布 | 第34-36页 |
| 2.7 本章小结 | 第36-37页 |
| 第3章 管中的逆时偏移方法 | 第37-52页 |
| 3.1 引言 | 第37页 |
| 3.2 偏移的目的 | 第37-38页 |
| 3.3 偏移的过程 | 第38-40页 |
| 3.4 圆管中的偏移方法 | 第40-46页 |
| 3.4.1 圆管中的外推公式 | 第40-43页 |
| 3.4.2 稳定性条件 | 第43-44页 |
| 3.4.3 成像条件 | 第44-45页 |
| 3.4.4 边界条件 | 第45-46页 |
| 3.5 压电片输出电压与位移的关系 | 第46-50页 |
| 3.5.1 有限元模型 | 第46-47页 |
| 3.5.2 激励信号 | 第47-48页 |
| 3.5.3 输出电压与位移的关系 | 第48-50页 |
| 3.6 本章小结 | 第50-52页 |
| 第4章 管中的逆时偏移试验成像 | 第52-66页 |
| 4.1 引言 | 第52页 |
| 4.2 基于d31型压电晶片阵列的试验研究 | 第52-61页 |
| 4.2.1 试验系统 | 第52-54页 |
| 4.2.2 激励频率 | 第54-55页 |
| 4.2.3 反射波场 | 第55-58页 |
| 4.2.4 外推与成像 | 第58-61页 |
| 4.3 基于d36型压电晶片阵列的试验研究 | 第61-64页 |
| 4.3.1 激励频率 | 第61-62页 |
| 4.3.2 反射波场 | 第62-63页 |
| 4.3.3 外推与成像 | 第63-64页 |
| 4.4 本章小结 | 第64-66页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
