| 目录 | 第4-6页 |
| Concent | 第6-8页 |
| 中文摘要 | 第8-10页 |
| ABSTRACT | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第12-40页 |
| 1.1 、发光材料的分类 | 第12-16页 |
| 1.1.1 、光致发光 | 第12-13页 |
| 1.1.2 、电致发光 | 第13页 |
| 1.1.3 、热释发光 | 第13-14页 |
| 1.1.4 、光释发光 | 第14页 |
| 1.1.5 、阴极射线发光 | 第14-15页 |
| 1.1.6 、辐射发光 | 第15页 |
| 1.1.7 、应力发光 | 第15页 |
| 1.1.8 、化学发光 | 第15-16页 |
| 1.1.9 、生物发光 | 第16页 |
| 1.2 、发光材料的应用 | 第16-20页 |
| 1.2.1 、照明技术 | 第16-18页 |
| 1.2.2 、显示技术 | 第18-19页 |
| 1.2.3 、太阳能电池 | 第19页 |
| 1.2.4 、食品安全检测 | 第19-20页 |
| 1.2.5 、其他 | 第20页 |
| 1.3 、光电集成 | 第20-23页 |
| 1.3.1 、光电集成的意义 | 第20-22页 |
| 1.3.2 、光电集成面临的难题 | 第22-23页 |
| 1.4 、硅基发光材料研究综述 | 第23-34页 |
| 1.4.1 、硅发光弱的原因 | 第23-24页 |
| 1.4.2 、改善硅发光的途径 | 第24-26页 |
| 1.4.3 、硅基发光材料研究概况 | 第26-33页 |
| 1.4.4 、稀土掺杂硅基发光材料研究中遇到的问题 | 第33-34页 |
| 1.5 、本文的研究内容 | 第34-36页 |
| 参考文献 | 第36-40页 |
| 第二章 铈掺杂硅基材料的红外光谱研究 | 第40-66页 |
| 2.1 、主要掺杂技术简介 | 第40-47页 |
| 2.1.1 、扩散技术 | 第40-42页 |
| 2.1.2 、离子注入 | 第42-47页 |
| 2.2 、真空蒸发镀膜技术简介 | 第47-51页 |
| 2.2.1 、重要参数 | 第47-48页 |
| 2.2.2 、蒸发源分类[11-12] | 第48-50页 |
| 2.2.3 、几种常用的蒸镀法[11-12] | 第50-51页 |
| 2.3 、红外光谱基本原理 | 第51-53页 |
| 2.4 、样品制备 | 第53-54页 |
| 2.5 、实验结果分析 | 第54-62页 |
| 2.5.1 、红外吸收谱试验结果分析 | 第54-59页 |
| 2.5.2 、红外反射谱试验结果分析 | 第59-62页 |
| 2.6 、总结 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 第三章 Ce~(3+)掺杂SiO_2材料的光致发光研究 | 第66-79页 |
| 3.1 、薄膜性能分析技术 | 第66-67页 |
| 3.2 、Ce~(3+)掺杂SiO_2的光致发光性能研究 | 第67-75页 |
| 3.2.1 、样品的制备 | 第67-68页 |
| 3.2.2 、掺杂浓度对样品光致发光性能的影响 | 第68-71页 |
| 3.2.3 、退火温度对样品光致发光性能的影响 | 第71-73页 |
| 3.2.4 、退火气氛对样品光致发光性能的影响 | 第73-75页 |
| 3.3 、总结 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-79页 |
| 第四章 全文总结 | 第79-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第82-83页 |
| 学论文评闻答辩情况 | 第83页 |
