摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6页 |
第1章 文献综述 | 第10-30页 |
1.1 色谱填料的发展 | 第10-14页 |
1.1.1 色谱填料的分类与应用 | 第10页 |
1.1.2 微孔二氧化硅的研究进展 | 第10-11页 |
1.1.3 介孔二氧化硅的研究进展 | 第11-14页 |
1.2 大孔二氧化硅的研究进展 | 第14-19页 |
1.2.1 色谱分离中的传质 | 第14-15页 |
1.2.2 大孔二氧化硅的应用 | 第15页 |
1.2.3 大孔二氧化硅的合成 | 第15-17页 |
1.2.4 大孔硅胶的表征方法 | 第17-19页 |
1.3 大孔二氧化硅在涂覆型手性固定相中的应用 | 第19-24页 |
1.3.1 多糖类手性固定相的发展 | 第19-21页 |
1.3.2 手性识别机理 | 第21-22页 |
1.3.3 影响涂覆型多糖衍生物手性固定相的因素 | 第22-24页 |
1.4 纳米核壳型大孔二氧化硅的制备与应用 | 第24-28页 |
1.4.1 核壳型硅胶 | 第24-25页 |
1.4.2 核壳型硅胶合成 | 第25-26页 |
1.4.3 纳米硅胶的合成 | 第26-28页 |
1.5 本论文的研究内容以及研究意义 | 第28-30页 |
第2章 大孔二氧化硅微球的制备 | 第30-43页 |
2.1 引言 | 第30-31页 |
2.2 实验部分 | 第31-34页 |
2.2.1 仪器与试剂 | 第31页 |
2.2.2 单分散大孔二氧化硅的制备 | 第31-32页 |
2.2.3 不同孔径多糖衍生物手性填料的制备 | 第32-33页 |
2.2.4 材料的表征 | 第33-34页 |
2.3 结果与讨论 | 第34-42页 |
2.3.1 二氧化硅焙烧成孔的形成机理 | 第34页 |
2.3.2 焙烧温度对于大孔二氧化硅的形貌影响 | 第34-36页 |
2.3.3 焙烧时间对于大孔二氧化硅的形貌影响 | 第36页 |
2.3.4 升温速率对于大孔二氧化硅的形貌影响 | 第36-37页 |
2.3.5 放大实验 | 第37页 |
2.3.6 不同孔径的大孔二氧化硅在手性分离中的比较 | 第37-42页 |
2.4 本章小结 | 第42-43页 |
第3章 酮咯酸的手性拆分 | 第43-58页 |
3.1 引言 | 第43-44页 |
3.2 实验部分 | 第44-45页 |
3.2.1 仪器与试剂 | 第44页 |
3.2.2 不同涂覆量的手性柱Chiralcel OJ制备 | 第44-45页 |
3.3 结果与讨论 | 第45-57页 |
3.3.1 结果与表征 | 第45-46页 |
3.3.2 酮咯酸拆分条件的优化 | 第46-51页 |
3.3.3 温度对手性分离的影响 | 第51-53页 |
3.3.4 手性识别机理 | 第53-54页 |
3.3.5 涂覆量对载样量的影响 | 第54-57页 |
3.4 本章小结 | 第57-58页 |
第4章 纳米核壳型大孔二氧化硅在手性固定相中的应用 | 第58-76页 |
4.1 引言 | 第58-59页 |
4.2 实验部分 | 第59-61页 |
4.2.1 仪器与试剂 | 第59页 |
4.2.2 手性固定相的合成路线 | 第59-60页 |
4.2.3 单分散纳米巯基硅胶的一步法合成 | 第60页 |
4.2.4 纳米核壳型硅胶的制备 | 第60-61页 |
4.2.5 色谱评价 | 第61页 |
4.3 结果与讨论 | 第61-70页 |
4.3.1 纳米巯基硅胶合成的影响因素 | 第61-66页 |
4.3.2 纳米核壳型硅胶的制备 | 第66-70页 |
4.4 色谱评价 | 第70-74页 |
4.4.1 手性固定相CSP 4-1~CSP 4-4的制备 | 第70-71页 |
4.4.2 手性固定相CSP 4-1~CSP 4-4手性分离的比较 | 第71-72页 |
4.4.3 流动相中酸添加剂对手性分析的影响 | 第72-73页 |
4.4.4 流动相中缓冲盐浓度对手性分析的影响 | 第73-74页 |
4.5 本章小结 | 第74-76页 |
第5章 总结 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-86页 |
致谢 | 第86-87页 |
硕士期间发表论文与专利 | 第87页 |
期刊论文 | 第87页 |
专利 | 第87页 |