| 摘要 | 第2-3页 |
| ABSTRACT | 第3-4页 |
| 第1章 半导体代工厂的洁净室概述 | 第11-19页 |
| 1.1 洁净室的定义 | 第11-13页 |
| 1.1.1 洁净室按用途的分类 | 第11-12页 |
| 1.1.2 半导体洁净室系统控管的项目 | 第12页 |
| 1.1.3 洁净室系统的构成 | 第12-13页 |
| 1.2 洁净室相关质量控制标准 | 第13-16页 |
| 1.2.1 洁净室洁净度的控制标准 | 第13-16页 |
| 1.2.2 洁净室温湿度的控制标准 | 第16页 |
| 1.2.3 洁净室空气分子污染浓度的控制标准 | 第16页 |
| 1.3 洁净室的设计、建造和运行管理概述 | 第16-18页 |
| 1.3.1 洁净室的设计 | 第16-17页 |
| 1.3.2 洁净室的建造 | 第17页 |
| 1.3.3 洁净室的运行管理 | 第17-18页 |
| 1.4 本文的意义和内容 | 第18-19页 |
| 第2章 洁净室系统设计的方法及案例分析 | 第19-33页 |
| 2.1 洁净室系统常见的设计方法 | 第19-24页 |
| 2.1.1 洁净室系统平面布局的设计 | 第19-22页 |
| 2.1.2 洁净室系统气流形式的设计 | 第22-23页 |
| 2.1.3 洁净室气流的流动设计 | 第23-24页 |
| 2.2 洁净室系统设计的案例分析 | 第24-32页 |
| 2.2.1 改善洁净厂房内的工艺平面布置的案例分析 | 第25-28页 |
| 2.2.2 改善洁净厂房内的气流组织的经验分享 | 第28-30页 |
| 2.2.3 采用变流量控制风量、水量的设计 | 第30-32页 |
| 2.3 本章小结 | 第32-33页 |
| 第3章 AMC（分子级空气污染）监测和有效处理方法 | 第33-50页 |
| 3.1 洁净室分子级空气污染（AMC）简介 | 第33-37页 |
| 3.1.1 AMC 的影响 | 第33-34页 |
| 3.1.2 AMC 的分类 | 第34-35页 |
| 3.1.3 如何有效的确定各类AMC 的控制浓度 | 第35-37页 |
| 3.2 常见AMC 含量的监测方法 | 第37-39页 |
| 3.3 洁净室AMC 含量的控制方法 | 第39-43页 |
| 3.4 实际生产中的AMC 超标的案例分析 | 第43-49页 |
| 3.5 本章小结 | 第49-50页 |
| 第4章 温湿度波动的原因和对策 | 第50-59页 |
| 4.1 洁净室内控制温度和相对湿度相对恒定的原因 | 第50-53页 |
| 4.2 洁净室内温湿度波动的分类原因分析和对策 | 第53-55页 |
| 4.2.1 新风（MUA）系统出故障 | 第54页 |
| 4.2.2 循环风（RCU）系统出问题 | 第54-55页 |
| 4.3 实际生产中的温湿度超标的案例分析 | 第55-58页 |
| 4.3.1 问题描述 | 第55-56页 |
| 4.3.2 问题分析和临时解决方案 | 第56-57页 |
| 4.3.3 试验验证根本原因分析和长期解决方案 | 第57-58页 |
| 4.4 本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 总结和展望 | 第59-61页 |
| 5.1 总结 | 第59页 |
| 5.2 展望 | 第59-61页 |
| 参考文献 | 第61-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第64-65页 |
| 上海交通大学学位论文答辩决议书 | 第65-67页 |