| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题研究目的及意义 | 第9-12页 |
| 1.1.1 光学元件在惯性约束核聚变中的应用及加工难题 | 第9-11页 |
| 1.1.2 课题的研究意义 | 第11-12页 |
| 1.2 抛光材料去除机理与环抛加工工艺 | 第12-14页 |
| 1.2.1 抛光材料去除机理 | 第12-13页 |
| 1.2.2 环抛加工工艺 | 第13-14页 |
| 1.3 抛光加工中接触问题研究现状 | 第14-16页 |
| 1.3.1 数理统计模型 | 第14-15页 |
| 1.3.2 数值仿真模型 | 第15页 |
| 1.3.3 多尺度模型 | 第15-16页 |
| 1.4 本文研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 环抛接触界面表征及全口径材料去除率建模 | 第18-34页 |
| 2.1 引言 | 第18页 |
| 2.2 环抛接触界面表征 | 第18-25页 |
| 2.2.1 工件材料参数 | 第18页 |
| 2.2.2 抛光盘的力学特性与结构形式 | 第18-23页 |
| 2.2.3 抛光液的物理特性 | 第23-25页 |
| 2.3 单磨粒材料去除模型 | 第25-30页 |
| 2.3.1 模型假设及符号说明 | 第25-27页 |
| 2.3.2 抛光盘-磨粒接触模型 | 第27-28页 |
| 2.3.3 磨粒-工件接触模型 | 第28-29页 |
| 2.3.4 单磨粒材料去除率 | 第29-30页 |
| 2.4 全口径平均材料去除率及讨论 | 第30-33页 |
| 2.4.1 全口径平均材料去除率建模 | 第30-32页 |
| 2.4.2 全口径平均材料去除率模型的讨论 | 第32-33页 |
| 2.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 工件-抛光盘非线性静态接触模型 | 第34-47页 |
| 3.1 引言 | 第34页 |
| 3.2 抛光盘接触响应机制判别 | 第34-36页 |
| 3.2.1 试件制备及单轴压缩实验 | 第34-35页 |
| 3.2.2 实验结果与讨论 | 第35-36页 |
| 3.3 特征尺寸下的工件-抛光盘静态接触模型建立与仿真 | 第36-40页 |
| 3.3.1 静态接触问题求解思路 | 第36页 |
| 3.3.2 材料参数及几何形状表征 | 第36-37页 |
| 3.3.3 抛光盘不同面形误差下的界面接触仿真 | 第37-40页 |
| 3.3.4 仿真结果讨论 | 第40页 |
| 3.4 工件-抛光盘的界面接触应力仿真及实验研究 | 第40-46页 |
| 3.4.1 界面接触应力仿真 | 第40-42页 |
| 3.4.2 界面接触应力检测 | 第42-46页 |
| 3.4.3 结果分析 | 第46页 |
| 3.5 本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 不同应力分布下的元件面形演变及实验研究 | 第47-57页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 单点材料去除模型 | 第47-48页 |
| 4.3 均匀应力下的元件面形演变仿真及实验 | 第48-51页 |
| 4.3.1 不同偏心距下的元件面形仿真 | 第48-50页 |
| 4.3.2 改变偏心距的元件面形演变实验 | 第50-51页 |
| 4.4 非均匀应力下的元件面形演变及实验 | 第51-56页 |
| 4.4.1 接触界面应力仿真 | 第51-53页 |
| 4.4.2 元件面形演变仿真 | 第53-55页 |
| 4.4.3 工艺实验验证 | 第55页 |
| 4.4.4 元件面形均匀性改善 | 第55-56页 |
| 4.5 本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术成果 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 个人简历 | 第68页 |