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Co2FeAl基薄膜的制备及微波软磁特性研究

摘要第2-3页
Abstract第3-4页
中文文摘第5-6页
目录第6-8页
第1章 绪论第8-18页
    1.1 引言第8页
    1.2 软磁材料的基本概念及其发展历程第8-13页
    1.3 软磁材料的新发展领域—高频铁磁薄膜第13-15页
        1.3.1 软磁材料的发展趋势第13-14页
        1.3.2 高频铁磁薄膜的应用第14-15页
    1.4 课题的研究意义第15-16页
    1.5 本论文的研究内容第16-18页
第2章 基本理论知识第18-26页
    2.1 动态磁化过程的特点第18-22页
        2.1.1 复数磁导率第18-19页
        2.1.2 磁损耗第19-22页
    2.2 磁性薄膜高磁导率理论第22-23页
    2.3 靶材的制备第23-24页
    2.4 薄膜的制备第24-26页
        2.4.1 镀膜设备第24页
        2.4.2 制备方法第24-26页
第3章 Co_2FeAl薄膜制备的最佳工艺条件及其高频特性研究第26-36页
    3.1 前言第26-27页
    3.2 样品制备第27页
    3.3 氩流量对面内单轴各向异性的影响第27-28页
    3.4 溅射时间对面内单轴各向异性的影响第28-30页
    3.5 溅射压强对面内单轴各向异性的影响第30-31页
    3.6 溅射功率对面内单轴各向异性的影响第31-34页
    3.7 本章小结第34-36页
第4章 不同基片位置处Co_2FeAl薄膜的面内单轴磁各向异性第36-42页
    4.1 前言第36页
    4.2 样品制备第36-37页
    4.3 结果与讨论第37-41页
    4.4 本章小结第41-42页
第5章 Si掺杂Co_2FeAl薄膜的制备及高频特性第42-50页
    5.1 前言第42-43页
    5.2 样品制备第43-44页
    5.3 实验结果与讨论第44-49页
        5.3.1 Si片掺杂数量对(Co_2FeAl)_(1-x)(Si)_x薄膜高频性质的影响第44-47页
        5.3.2 溅射功率对(Co_2FeAl)_(1-x)(Si)_x薄膜高频性质的影响第47-49页
    5.4 本章小结第49-50页
结论第50-52页
参考文献第52-58页
攻读学位期间主要科研成果第58-60页
致谢第60-62页
个人简历第62-66页

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