| 摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3-4页 |
| 中文文摘 | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-18页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 软磁材料的基本概念及其发展历程 | 第8-13页 |
| 1.3 软磁材料的新发展领域—高频铁磁薄膜 | 第13-15页 |
| 1.3.1 软磁材料的发展趋势 | 第13-14页 |
| 1.3.2 高频铁磁薄膜的应用 | 第14-15页 |
| 1.4 课题的研究意义 | 第15-16页 |
| 1.5 本论文的研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 基本理论知识 | 第18-26页 |
| 2.1 动态磁化过程的特点 | 第18-22页 |
| 2.1.1 复数磁导率 | 第18-19页 |
| 2.1.2 磁损耗 | 第19-22页 |
| 2.2 磁性薄膜高磁导率理论 | 第22-23页 |
| 2.3 靶材的制备 | 第23-24页 |
| 2.4 薄膜的制备 | 第24-26页 |
| 2.4.1 镀膜设备 | 第24页 |
| 2.4.2 制备方法 | 第24-26页 |
| 第3章 Co_2FeAl薄膜制备的最佳工艺条件及其高频特性研究 | 第26-36页 |
| 3.1 前言 | 第26-27页 |
| 3.2 样品制备 | 第27页 |
| 3.3 氩流量对面内单轴各向异性的影响 | 第27-28页 |
| 3.4 溅射时间对面内单轴各向异性的影响 | 第28-30页 |
| 3.5 溅射压强对面内单轴各向异性的影响 | 第30-31页 |
| 3.6 溅射功率对面内单轴各向异性的影响 | 第31-34页 |
| 3.7 本章小结 | 第34-36页 |
| 第4章 不同基片位置处Co_2FeAl薄膜的面内单轴磁各向异性 | 第36-42页 |
| 4.1 前言 | 第36页 |
| 4.2 样品制备 | 第36-37页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第37-41页 |
| 4.4 本章小结 | 第41-42页 |
| 第5章 Si掺杂Co_2FeAl薄膜的制备及高频特性 | 第42-50页 |
| 5.1 前言 | 第42-43页 |
| 5.2 样品制备 | 第43-44页 |
| 5.3 实验结果与讨论 | 第44-49页 |
| 5.3.1 Si片掺杂数量对(Co_2FeAl)_(1-x)(Si)_x薄膜高频性质的影响 | 第44-47页 |
| 5.3.2 溅射功率对(Co_2FeAl)_(1-x)(Si)_x薄膜高频性质的影响 | 第47-49页 |
| 5.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-52页 |
| 参考文献 | 第52-58页 |
| 攻读学位期间主要科研成果 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-62页 |
| 个人简历 | 第62-66页 |
