| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 稀磁半导体概述 | 第11-15页 |
| 1.1.1 稀磁半导体的研究进展 | 第11-12页 |
| 1.1.2 稀磁半导体概念 | 第12页 |
| 1.1.3 稀磁半导体中铁磁性的来源 | 第12-14页 |
| 1.1.4 稀磁半导体的物理特性 | 第14-15页 |
| 1.2 TiO_2的结构与基本性质 | 第15-16页 |
| 1.3 TiO_2基稀磁半导体的研究现状 | 第16-18页 |
| 1.4 本课题的研究意义和研究内容 | 第18-21页 |
| 1.4.1 研究意义 | 第18页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第18-21页 |
| 第二章 样品的制备方法与表征手段 | 第21-29页 |
| 2.1 样品的制备方法 | 第21-24页 |
| 2.1.1 脉冲激光沉积(PLD) | 第21页 |
| 2.1.2 阳极氧化法(oxidation method) | 第21-22页 |
| 2.1.3 磁控溅射(magnetron sputtering) | 第22页 |
| 2.1.4 分子束外延(MBE) | 第22页 |
| 2.1.5 离子注入(ion implantation) | 第22-23页 |
| 2.1.6 固相反应(solid reaction) | 第23页 |
| 2.1.7 化学气相沉积(chemical vapor deposition) | 第23页 |
| 2.1.8 溶胶-凝胶法(sol-gel) | 第23-24页 |
| 2.1.9 放电等离子烧结(Spark Plasma Sintering) | 第24页 |
| 2.2 样品的表征 | 第24-29页 |
| 2.2.1 X射线衍射(XRD) | 第24-25页 |
| 2.2.2 X射线光电子能谱(XPS) | 第25-26页 |
| 2.2.3 光致发光光谱(PL) | 第26页 |
| 2.2.4 紫外可见分光光度计(UV-vis) | 第26-27页 |
| 2.2.5 场发射扫描电镜(SEM) | 第27页 |
| 2.2.6 振动样品磁强计(VSM) | 第27-29页 |
| 第三章 Au掺杂TiO_2薄膜稀磁特性的研究 | 第29-39页 |
| 3.1 引言 | 第29-30页 |
| 3.2 样品制备 | 第30-31页 |
| 3.3 实验结果分析 | 第31-35页 |
| 3.3.1 X射线衍射(XRD) | 第31-32页 |
| 3.3.2 紫外可见分光光度计(UV-vis) | 第32页 |
| 3.3.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第32-35页 |
| 3.4 计算结果分析 | 第35-38页 |
| 3.5 本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 Fe/C掺杂TiO_2薄膜稀磁特性的研究 | 第39-49页 |
| 4.1 引言 | 第39页 |
| 4.2 实验过程 | 第39-41页 |
| 4.3 实验结果分析 | 第41-45页 |
| 4.3.1 X射线衍射(XRD) | 第41-42页 |
| 4.3.2 X射线光电子能谱(XPS) | 第42-43页 |
| 4.3.3 紫外可见分光光度计(UV-vis) | 第43-44页 |
| 4.3.4 光致发光光谱(PL) | 第44-45页 |
| 4.3.5 振动样品磁强计(VSM) | 第45页 |
| 4.4 计算结果分析 | 第45-48页 |
| 4.4.1 态密度图 | 第46-48页 |
| 4.5 本章小结 | 第48-49页 |
| 第五章 Mo/N掺杂TiO_2薄膜稀磁特性的研究 | 第49-57页 |
| 5.1 引言 | 第49页 |
| 5.2 实验过程 | 第49-51页 |
| 5.3 实验结果分析 | 第51-56页 |
| 5.3.1 X射线衍射(XRD) | 第51-52页 |
| 5.3.2 场发射扫描电镜(SEM) | 第52-53页 |
| 5.3.3 X射线光电子能谱(XPS) | 第53-54页 |
| 5.3.4 光致发光光谱(PL) | 第54-55页 |
| 5.3.5 振动样品磁强计(VSM) | 第55-56页 |
| 5.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-65页 |
| 致谢 | 第65-67页 |
| 攻读硕士学位期间的主要工作 | 第67-68页 |
