磁控溅射制备TiAlN薄膜及其性能研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-25页 |
| ·表面工程技术 | 第8-11页 |
| ·表面工程技术的分类和内容 | 第8-11页 |
| ·表面工程技术的主要任务及应用 | 第11页 |
| ·溅射镀膜 | 第11-17页 |
| ·溅射镀膜的机理 | 第11-13页 |
| ·溅射镀膜技术 | 第13-15页 |
| ·溅射沉积成膜 | 第15-17页 |
| ·溅射镀膜的特点及应用 | 第17页 |
| ·TiAlN简介 | 第17-23页 |
| ·TiAlN结构 | 第18-19页 |
| ·TiAlN的制备 | 第19-22页 |
| ·研究现状及发展趋势 | 第22-23页 |
| ·本课题研究的目的及意义 | 第23-24页 |
| ·本课题研究的内容及技术路线 | 第24-25页 |
| 2 实验材料与测试方法 | 第25-32页 |
| ·实验材料 | 第25页 |
| ·实验设备 | 第25-26页 |
| ·制备TiAlN薄膜的工艺流程 | 第26-27页 |
| ·检测方法 | 第27-31页 |
| ·薄膜显微硬度测试 | 第27页 |
| ·薄膜厚度测试 | 第27-28页 |
| ·膜-基结合力测试 | 第28-29页 |
| ·X射线衍射分析（XRD） | 第29-30页 |
| ·扫描电镜（SEM）及能谱仪（EDS） | 第30-31页 |
| ·金相显微镜 | 第31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 3 TiAlN薄膜的制备及力学性能分析 | 第32-52页 |
| ·试验参数设计 | 第32-33页 |
| ·TiAlN涂层硬度试验结果分析 | 第33-34页 |
| ·各工艺参数对TiAlN涂层硬度的影响 | 第34-39页 |
| ·偏压对TiAlN薄膜硬度的影响 | 第34-36页 |
| ·N_2流量对TiAlN薄膜硬度的影响 | 第36-37页 |
| ·Ti/Al合金靶对TiAlN薄膜硬度的影响 | 第37-38页 |
| ·时间对TiAlN薄膜硬度的影响 | 第38-39页 |
| ·TiAlN涂层膜基结合力试验结果分析 | 第39-45页 |
| ·各工艺参数对TiAlN涂层膜基结合力的影响 | 第45-49页 |
| ·偏压对镀层膜基结合力的影响 | 第45-46页 |
| ·N2流量对镀层膜基结合力的影响 | 第46-47页 |
| ·Ti/Al合金靶对镀层膜基结合力的影响 | 第47-48页 |
| ·时间对镀层膜基结合力的影响 | 第48-49页 |
| ·确定最佳工艺参数 | 第49页 |
| ·验证最佳工艺参数 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 4 TiAlN薄膜形貌及物相分析 | 第52-62页 |
| ·TiAlN涂层组织结构分析 | 第52-54页 |
| ·TiAlN涂层表面形貌分析 | 第52-53页 |
| ·TiAlN涂层断口形貌分析 | 第53-54页 |
| ·TiAlN涂层能谱及XRD分析 | 第54-60页 |
| ·TiAlN涂层能谱分析 | 第54-57页 |
| ·TiAlN薄膜物相结构分析 | 第57-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 结论 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |
| 攻读硕士论文期间发表论文及科研成果 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68-69页 |
