MEMS刻蚀工艺模型研究与仿真
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-8页 |
第一章 绪论 | 第8-14页 |
·MEMS简介 | 第8-10页 |
·MEMS加工技术 | 第8-9页 |
·MEMS刻蚀工艺 | 第9-10页 |
·MEMS CAD | 第10-11页 |
·刻蚀工艺仿真模型及国内外研究现状 | 第11-13页 |
·论文主要工作 | 第13-14页 |
第二章 MEMS刻蚀工艺机理及模型 | 第14-25页 |
·湿法腐蚀机理 | 第14-18页 |
·硅烷醇结构与形成 | 第15-16页 |
·氢氟酸与硅烷醇的反应 | 第16-18页 |
·干法刻蚀原理 | 第18-21页 |
·反应离子刻蚀 | 第18-20页 |
·ICP刻蚀 | 第20-21页 |
·离子溅射刻蚀 | 第21页 |
·刻蚀工艺常用模拟方法 | 第21-24页 |
·线算法 | 第22页 |
·水平集算法 | 第22-23页 |
·元胞自动机算法 | 第23-24页 |
·本章小结 | 第24-25页 |
第三章 牺牲层腐蚀模型研究与仿真分析 | 第25-53页 |
·牺牲层基本腐蚀模型 | 第25-27页 |
·一维腐蚀模型分析 | 第27-32页 |
·扩散腐蚀模型 | 第27-28页 |
·Deal-Grove模型 | 第28-29页 |
·一二阶联合模型 | 第29-30页 |
·Power law模型 | 第30-32页 |
·二维腐蚀模型研究与分析 | 第32-37页 |
·二维极坐标腐蚀模型 | 第32-33页 |
·二维直角坐标腐蚀模型 | 第33-35页 |
·考虑温度因素的模型优化 | 第35-37页 |
·二维腐蚀模型求解与算法优化 | 第37-40页 |
·模型数学求解 | 第37-39页 |
·算法实现与优化 | 第39-40页 |
·二维腐蚀模型实验与仿真 | 第40-52页 |
·仿真参数设置 | 第41页 |
·横向平面腐蚀仿真分析 | 第41-47页 |
·纵向深度腐蚀仿真分析 | 第47-51页 |
·结果分析 | 第51-52页 |
·本章小结 | 第52-53页 |
第四章 元胞自动机模型研究与仿真分析 | 第53-76页 |
·元胞自动机原理 | 第53-55页 |
·一维元胞自动机原理 | 第53-54页 |
·二维元胞自动机原理 | 第54-55页 |
·二维元胞自动机模型 | 第55-62页 |
·二维元胞自动机模型推导 | 第55-60页 |
·二维元胞自动机模型修正 | 第60-61页 |
·算法实现和优化 | 第61-62页 |
·二维元胞自动机模型模拟分析 | 第62-75页 |
·横向平面模拟分析 | 第62-65页 |
·纵向深度模拟分析 | 第65-74页 |
·结果分析 | 第74-75页 |
·本章小结 | 第75-76页 |
第五章 总结与展望 | 第76-78页 |
·本文工作总结 | 第76-77页 |
·下一步工作展望 | 第77-78页 |
参考文献 | 第78-81页 |
附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文 | 第81-82页 |
附录2 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第82-83页 |
致谢 | 第83页 |