激光制备多晶硅太阳电池表面织构的研究
| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-12页 |
| 第1章 绪论 | 第12-22页 |
| ·研究背景及意义 | 第12-15页 |
| ·晶体硅太阳能电池的工作原理 | 第15-17页 |
| ·太阳能电池的种类 | 第17-18页 |
| ·硅基太阳能电池 | 第17-18页 |
| ·化合物薄膜太阳能电池 | 第18页 |
| ·太阳能电池的制作流程 | 第18-20页 |
| ·本文研究的内容 | 第20-22页 |
| 第2章 晶体硅太阳电池表面制绒简介 | 第22-31页 |
| ·表面织构的减反射原理 | 第22-24页 |
| ·单晶体硅电池绒面织构技术 | 第24-25页 |
| ·多晶硅电池绒面织构技术 | 第25-28页 |
| ·机械刻槽 | 第25页 |
| ·化学溶液腐蚀 | 第25-26页 |
| ·等离子刻蚀 | 第26-27页 |
| ·激光表面织构技术 | 第27-28页 |
| ·激光表面织构技术的发展 | 第28-31页 |
| 第3章 多晶硅表面激光织构研究 | 第31-40页 |
| ·样品的制备与测试 | 第31-34页 |
| ·主要实验设备和原料 | 第31页 |
| ·实验工艺 | 第31-32页 |
| ·测试设备 | 第32-34页 |
| ·激光参数的选择 | 第34-38页 |
| ·激光能量影响 | 第35-36页 |
| ·刻蚀速度影响 | 第36-37页 |
| ·重复频率影响 | 第37-38页 |
| ·多晶硅表面织构的制备 | 第38-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第4章 化学腐蚀溶液的优化 | 第40-47页 |
| ·引言 | 第40页 |
| ·实验样品制备及测试 | 第40-41页 |
| ·样品制备 | 第40页 |
| ·实验工艺 | 第40-41页 |
| ·样品测试 | 第41页 |
| ·实验结果及讨论 | 第41-46页 |
| ·浓度对清除效果的影响 | 第41-43页 |
| ·时间对清除效果的影响 | 第43-45页 |
| ·温度对清除效果的影响 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第5章 激光刻蚀角度对多晶硅片表面反射率的影响 | 第47-59页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·陷阱坑形貌光学性能的仿真 | 第47-52页 |
| ·V型坑光学性能 | 第48-49页 |
| ·U型坑光学性能 | 第49-51页 |
| ·垂直刻蚀和倾斜刻蚀后刻槽结构的光学性能 | 第51-52页 |
| ·实验 | 第52-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文和获得的科研成果 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
