| 符号说明 | 第1-11页 |
| 中文摘要 | 第11-15页 |
| Abstract | 第15-19页 |
| 1 前言 | 第19-34页 |
| ·光系统 I（PSI）光抑制 | 第19-25页 |
| ·PSI 光抑制发生的决定因素 | 第19-21页 |
| ·物种 | 第19-20页 |
| ·光温条件 | 第20页 |
| ·氧气 | 第20-21页 |
| ·其他导致 PSI 光抑制的因素 | 第21页 |
| ·PSI 低温光抑制的机理 | 第21-22页 |
| ·活性氧起直接作用 | 第21-22页 |
| ·低温加剧了活性氧的积累 | 第22页 |
| ·PSI 的光破坏防御机制 | 第22-24页 |
| ·活性氧清除机制 | 第22-23页 |
| ·PSI 环式电子传递 | 第23页 |
| ·PSI 电荷重组 | 第23-24页 |
| ·其它 | 第24页 |
| ·光抑制后 PSI 的恢复 | 第24-25页 |
| ·光系统 II（PSII）光抑制 | 第25-33页 |
| ·PSII 光抑制理论 | 第25-26页 |
| ·PSII 光抑制与修复 | 第26-27页 |
| ·PSII 与 ROS 的产生 | 第27页 |
| ·PSII 光破坏防御机制 | 第27-33页 |
| ·热耗散 | 第28-30页 |
| ·光呼吸 | 第30页 |
| ·PSII 环式电子传递 | 第30-31页 |
| ·活性氧清除机制 | 第31-32页 |
| ·叶绿体外的保护机制 | 第32-33页 |
| ·本研究的目的和意义 | 第33-34页 |
| 2 材料与方法 | 第34-38页 |
| ·实验材料 | 第34页 |
| ·材料处理 | 第34-35页 |
| ·低温处理 | 第34页 |
| ·不同光处理 | 第34页 |
| ·电子传递抑制剂处理 | 第34-35页 |
| ·实验方法 | 第35-37页 |
| ·光源光谱测定和叶片透射/反射光谱测定 | 第35页 |
| ·叶绿素荧光的测定 | 第35-36页 |
| ·叶绿素 a 荧光诱导动力学 OJIP 曲线的测定及 JIP-test 分析 | 第36页 |
| ·P700 活性的测定 | 第36页 |
| ·叶片类囊体膜的制备 | 第36-37页 |
| ·离体类囊体膜电子传递速率测定 | 第37页 |
| ·叶片气体交换参数的测定 | 第37页 |
| ·H_2O_2组织化学染色 | 第37页 |
| ·统计分析 | 第37-38页 |
| 3 结果与分析 | 第38-60页 |
| ·低温不同光强下黄瓜叶片 PSI 与 PSII 的关系 | 第38-41页 |
| ·光强对黄瓜叶片 PSI 和 PSII 低温光抑制的影响 | 第38页 |
| ·低温光处理对黄瓜叶片电子传递链活性的影响 | 第38-39页 |
| ·过剩激发能对黄瓜叶片 PSI 和 PSII 低温光抑制的影响 | 第39-41页 |
| ·DCMU 对黄瓜叶片 PSI 和 PSII 低温光抑制的影响 | 第41页 |
| ·低温光胁迫下不同展开程度黄瓜叶片 PSI 与 PSII 的关系 | 第41-47页 |
| ·不同展开程度黄瓜叶片净光合速率对低温光胁迫的响应 | 第41页 |
| ·不同展开程度黄瓜叶片在低温光处理后 PSI 和 PSII 活性的变化 | 第41-43页 |
| ·不同展开程度黄瓜叶片在低温光胁迫后 PSII 光化学活性的变化 | 第43-44页 |
| ·不同展开程度的黄瓜叶片在低温光胁迫后过氧化氢含量的变化 | 第44页 |
| ·不同展开程度的黄瓜叶片在低温光胁迫后 PSII 光化学活性的变化 | 第44-46页 |
| ·DCMU 对于不同展开程度的黄瓜叶片在低温光胁迫后 PSII 和 PSI 活性的影响 | 第46页 |
| ·小结 | 第46-47页 |
| ·冷敏感与耐冷植物在低温光胁迫下 PSI 与 PSII 的关系 | 第47-51页 |
| ·低温光处理对杂交酸模和黄瓜叶片光合速率的影响 | 第47-48页 |
| ·低温光处理对杂交酸模和黄瓜叶片活性氧含量的影响 | 第48页 |
| ·低温光处理对杂交酸模和黄瓜叶片 PSI 和 PSII 活性的影响 | 第48-49页 |
| ·低温光处理对杂交酸模和黄瓜叶片 PSI 和 PSII 相互关系的影响 | 第49-50页 |
| ·DCMU 对低温光处理下杂交酸模和黄瓜叶片 PSI 和 PSII 活性的影响 | 第50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| ·低温不同光质光处理对黄瓜叶片 PSI 与 PSII 的关系的影响 | 第51-54页 |
| ·不同光质光源的光谱 | 第51-52页 |
| ·黄瓜叶片对不同光质光的吸收、反射和吸收光谱 | 第52-53页 |
| ·黄瓜叶片在低温不同光质光处理后 PSII 和 PSI 活性的变化 | 第53-54页 |
| ·紫外线（UV-B）对黄瓜叶片低温光处理过程中 PSI 与 PSII 的关系的影响 | 第54-55页 |
| ·紫外线（UV-B）的获得和过滤 | 第54页 |
| ·UV 对低温光抑制下 PSI 和 PSII 活性的影响 | 第54-55页 |
| ·黄瓜叶片低温光胁迫后的常温恢复过程中 PSI 与 PSII 的关系 | 第55-60页 |
| ·黄瓜叶片在低温光抑制的恢复过程中 PSI 和 PSII 活性的变化 | 第56-57页 |
| ·黄瓜叶片在低温光胁迫后的常温恢复过程中 PSII 电子传递活性和激发压的变化 | 第57页 |
| ·DCMU 对黄瓜叶片低温光抑制恢复过程中 PSI 和 PSII 活性的影响 | 第57-58页 |
| ·小结 | 第58-60页 |
| 4 讨论 | 第60-66页 |
| ·PSI 是植物低温光抑制的首要位点 | 第60-61页 |
| ·低温光胁迫下 PSI 与 PSII 的相互作用 | 第61-63页 |
| ·生产中减少或避免 PSI 低温光抑制应该采取的措施 | 第63-66页 |
| 5 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 攻读学位期间发表论文情况 | 第80页 |
