SiN应力膜研究与工艺实现
| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-10页 |
| ·研究背景及意义 | 第6-7页 |
| ·国内外研究动态 | 第7-8页 |
| ·论文主要研究工作及安排 | 第8-10页 |
| 第二章 应力引入方法 | 第10-26页 |
| ·应变Si | 第10-13页 |
| ·应变Si应力引入方法 | 第13-20页 |
| ·全局应变技术 | 第13-17页 |
| ·局部应变技术 | 第17-20页 |
| ·SiN致应变技术 | 第20-25页 |
| ·SiN致应变技术 | 第20-23页 |
| ·应力记忆技术 | 第23-24页 |
| ·复合应变技术 | 第24-25页 |
| ·本章小结 | 第25-26页 |
| 第三章 SiN膜应力机制研究 | 第26-60页 |
| ·SiN膜应力分析 | 第26-27页 |
| ·热应力 | 第26页 |
| ·本征应力 | 第26-27页 |
| ·SiN应力膜结构研究 | 第27-32页 |
| ·张应力SiN | 第27-31页 |
| ·压应力SiN | 第31-32页 |
| ·SiN膜致应力作用机制研究 | 第32-54页 |
| ·张应力 | 第32-47页 |
| ·压应力 | 第47-54页 |
| ·SiN膜应力提升机理研究 | 第54-59页 |
| ·张应力SiN | 第54-58页 |
| ·压应力SiN | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第四章 SiN应力膜工艺实现 | 第60-70页 |
| ·SiN应力膜制备技术 | 第60页 |
| ·SiN膜应力与工艺参数 | 第60-62页 |
| ·实验结果与分析 | 第62-69页 |
| ·实验方法 | 第62-63页 |
| ·实验结果分析 | 第63-69页 |
| ·本章小结 | 第69-70页 |
| 第五章 总结与展望 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 研究成果 | 第80页 |
