微纳流控芯片制作方法及其富集应用
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-19页 |
| ·引言 | 第11-13页 |
| ·纳流控芯片介入的意义 | 第13-14页 |
| ·微纳流控芯片研究现状 | 第14-17页 |
| ·掩膜加工法 | 第14-15页 |
| ·三明治式夹膜加工法 | 第15-16页 |
| ·其他加工法 | 第16-17页 |
| ·本文工作内容 | 第17-19页 |
| 2 玻璃微纳流控芯片的设计与制作 | 第19-33页 |
| ·微纳流控芯片的结构设计 | 第19-20页 |
| ·总体制造方案 | 第20-21页 |
| ·版图设计 | 第21页 |
| ·微通道成形 | 第21-23页 |
| ·腐蚀原理 | 第21-22页 |
| ·试剂，材料及仪器装置 | 第22页 |
| ·微通道成形 | 第22-23页 |
| ·纳通道成形 | 第23-28页 |
| ·采用电子束曝光的方法制作二维纳米通道 | 第24-27页 |
| ·紫外线曝光制作纳米通道 | 第27-28页 |
| ·储液池的加工 | 第28-29页 |
| ·微纳流控芯片的键合 | 第29-32页 |
| ·微纳流控芯片清洗 | 第29页 |
| ·微通道芯片和纳通道芯片的对准 | 第29-31页 |
| ·微纳流控芯片的高温键合 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 3 三明治形PDMS微纳流控芯片制作方法 | 第33-42页 |
| ·总体的设计和制作方案 | 第33-35页 |
| ·设计 | 第33-34页 |
| ·制作方案 | 第34-35页 |
| ·版图的设计 | 第35-36页 |
| ·软件图形的设计 | 第35页 |
| ·掩膜版的制作 | 第35-36页 |
| ·制作SU-8胶模具 | 第36-38页 |
| ·SU-8胶模具的特点 | 第36页 |
| ·基底材料的选择 | 第36-37页 |
| ·试剂和材料 | 第37页 |
| ·SU-8胶模具的制作 | 第37-38页 |
| ·PDMS微通道芯片制作 | 第38-40页 |
| ·PDMS材料的特点 | 第38-39页 |
| ·微通道成形 | 第39-40页 |
| ·制作三明治形PDMS微纳流控芯片 | 第40页 |
| ·纳米孔膜 | 第40页 |
| ·芯片的键合 | 第40页 |
| ·离子富集实验 | 第40-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 4 基于微纳流控的高效富集实验 | 第42-49页 |
| ·富集原理 | 第42-43页 |
| ·表面电荷 | 第42页 |
| ·双电层 | 第42-43页 |
| ·纳米通道的尺度效应 | 第43页 |
| ·离子的高效富集实验 | 第43-45页 |
| ·高效富集的实验设备 | 第43-44页 |
| ·富集所用溶液的配制 | 第44页 |
| ·高效富集实验 | 第44-45页 |
| ·蛋白的高效富集实验 | 第45-48页 |
| ·蛋白高效富集的实验设备 | 第45-46页 |
| ·富集溶液的配制 | 第46页 |
| ·蛋白高效富集实验 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 5 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-53页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
