| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-20页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·复合磁电材料发展历史与复合磁电薄膜 | 第12-15页 |
| ·钙钛矿结构铁电材料与尖晶石结构铁磁材料 | 第15-17页 |
| ·钙钛矿结构铁电材料 | 第15-16页 |
| ·尖晶石结构铁磁材料 | 第16-17页 |
| ·钙钛矿铁电材料与尖晶石铁磁材料的晶格匹配关系 | 第17页 |
| ·本论文的技术路线 | 第17-19页 |
| ·本论文的主要内容 | 第19-20页 |
| 第二章 复合磁电薄膜的制备方法及结构和性能表征原理 | 第20-32页 |
| ·复合磁电薄膜的制备方法 | 第20-27页 |
| ·脉冲激光沉积（PLD） | 第20-21页 |
| ·激光分子束外延（L-MBE） | 第21-23页 |
| ·原位反射式高能电子衍射 | 第23-27页 |
| ·薄膜表面RHEED 主要信息 | 第24-26页 |
| ·RHEED 与生长模式 | 第26-27页 |
| ·薄膜的微结构分析方法 | 第27-30页 |
| ·XRD 原理 | 第27-29页 |
| ·AFM 原理 | 第29-30页 |
| ·复合磁电薄膜的电、磁性能测试 | 第30-32页 |
| ·电滞回线的测试 | 第30页 |
| ·磁滞回线的测试 | 第30-32页 |
| 第三章 BTO/CFO 双层复合薄膜的生长及界面应力效应研究 | 第32-44页 |
| ·薄膜原位生长监测分析 | 第32-37页 |
| ·BTO/CFO 复合薄膜生长过程分析 | 第32-35页 |
| ·BTO/CFO 复合薄膜应力释放过程分析 | 第35-37页 |
| ·薄膜微结构XRD 分析 | 第37-40页 |
| ·界面应力情况对复合薄膜铁电性能的影响 | 第40-41页 |
| ·磁电效应研究 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 PZT/NFO 多层复合薄膜制备及界面应力效应研究 | 第44-55页 |
| ·单层PZT 薄膜的生长及铁电性能研究 | 第44-47页 |
| ·PZT 靶材制备 | 第44-46页 |
| ·PZT 单层薄膜制备及铁电性能研究 | 第46-47页 |
| ·多层系列PZT/NFO 复合薄膜中界面应力效应研究 | 第47-52页 |
| ·多层系列PZT/NFO 复合薄膜微结构XRD 分析 | 第48-50页 |
| ·多层系列PZT/NFO 复合薄膜铁电性研究 | 第50-51页 |
| ·多层系列PZT/NFO 复合薄膜的磁性能研究 | 第51-52页 |
| ·三明治结构PZT/CFO/PZT 复合薄膜与PZT/NFO/PZT 复合薄膜 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第五章 主要结论与创新点 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-61页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第61-62页 |
