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CVD工艺制备二氧化锡纳米材料

摘要第1-5页
Abstract第5-7页
目录第7-9页
第一章 绪论第9-25页
   ·引言第9-10页
   ·纳米材料的基本物理效应第10-12页
     ·量子尺寸效应第10页
     ·宏观量子隧道效应第10-11页
     ·表面效应第11页
     ·小尺寸效应第11-12页
     ·介电限域效应第12页
   ·纳米材料的应用第12-14页
     ·在微电子学上的应用第12-13页
     ·在生物工程上的应用第13页
     ·在光电领域的应用第13页
     ·在化工领域的应用第13页
     ·在医学上的应用第13-14页
     ·在分子组装方面的应用第14页
   ·SnO_2纳米材料的制备方法第14-19页
     ·SnO_2纳米微粒的制备方法第14-16页
     ·SnO_2纳米薄膜的制备方法第16-18页
     ·一维SnO_2纳米材料的制备方法第18-19页
   ·化学气相沉积第19-22页
   ·课题来源及研究目的、意义第22页
 参考文献第22-25页
第二章 多孔阳极氧化铝膜板的制备第25-36页
   ·结构形貌第25-26页
   ·氧化铝膜的分类第26页
   ·多孔氧化铝膜的制备工艺第26-27页
   ·多孔氧化铝膜的生长机理第27-29页
   ·多孔阳极氧化铝模板的制备第29-33页
     ·引言第29-30页
     ·实验部分第30-33页
   ·本章小结第33页
 参考文献第33-36页
第三章 CVD工艺制备二氧化锡纳米线、纳米棒与纳米带第36-45页
   ·二氧化锡的结构、性质第36-37页
   ·二氧化锡的应用第37-38页
   ·利用AAO模板通过CVD工艺合成SnO_2纳米材料第38-43页
     ·二氧化锡纳米线第38-41页
     ·旗状二氧化锡纳米棒的制备与表征第41-42页
     ·镰刀状纳米片的制备与表征第42-43页
     ·小结第43页
   ·本章小结第43-44页
 参考文献第44-45页
第四章 掺锑二氧化锡纳米材料的制备与表征第45-56页
   ·前言第45-46页
     ·良好的导电性第45-46页
     ·浅色透明性第46页
     ·良好的耐候性和稳定性第46页
     ·粒子纳米化第46页
   ·阶梯状掺锑(Sb)二氧化锡(SnO_2)纳米带的制备与表征第46-51页
     ·实验过程第46-47页
     ·样品形貌和结构讨论第47-49页
     ·未掺杂的SnO_2纳米线和掺Sb的SnO_2纳米带的光致发光分析第49-50页
     ·结论第50-51页
   ·锥状塔式SnO_2:Sb_2O_3复合物第51-53页
     ·实验部分第51页
     ·实验结果与分析第51-53页
     ·结论第53页
   ·珠串状掺Sb的SnO_2纳米材料第53-54页
   ·本章小结第54页
 参考文献第54-56页
第五章 碳纳米管表面包覆氧化锡单晶第56-67页
   ·引言第56-60页
     ·碳纳米管性质第57页
     ·碳纳米管的制备工艺第57-58页
     ·碳纳米管的填充、掺杂及包覆第58-60页
   ·实验部分第60-63页
     ·实验过程第60-61页
     ·实验结果分析第61-63页
     ·结论第63页
   ·本章小结第63-64页
 参考文献第64-67页
第六章 结论与展望第67-68页
硕士期间学术论文发表情况第68-70页
致谢第70页

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