| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 前言 | 第7-16页 |
| §1.1 半导体外延薄膜结构与X射线衍射分析 | 第7-9页 |
| §1.2 超晶格的基本概念和特点 | 第9-11页 |
| §1.3 超晶格的应用 | 第11-12页 |
| §1.4 X射线对超晶格结构的测量 | 第12-16页 |
| 第二章 超晶格X射线运动学理论 | 第16-25页 |
| §2.1 摘要 | 第16页 |
| §2.2 布拉格方程 | 第16页 |
| §2.3 X射线理论 | 第16-21页 |
| §2.4 超晶格的运动学衍射 | 第21-25页 |
| 第三章 X射线双晶衍射实验方法 | 第25-30页 |
| §3.1 X射线双晶衍射技术简介 | 第25-27页 |
| §3.2 实验仪器 | 第27-28页 |
| §3.3 双晶衍射仪的反射能力和反射率 | 第28-30页 |
| 第四章 超晶格的实验与模拟 | 第30-53页 |
| §4.1 引言 | 第30页 |
| §4.2 AlGaAs/GaAs超晶格的X射线衍射实验与计算结果 | 第30-39页 |
| §4.3 InGaAs/GaAs超晶格的双晶衍射实验与理论模拟 | 第39-47页 |
| §4.3.1 引言 | 第39页 |
| §4.3.2 实验结果及理论模拟分析 | 第39-47页 |
| §4.4 GaSb/GaAs超晶格双晶衍射模拟与分析 | 第47-51页 |
| §4.4.1 引言 | 第47-48页 |
| §4.4.2 实验结果和理论模拟分析 | 第48-51页 |
| §4.5 小结 | 第51-53页 |
| 第五章 总结 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-56页 |
