首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--场效应器件论文

垂直双扩散MOSFET栅电阻的测试研究

中文摘要第1-4页
Abstract第4-6页
一、引言第6-8页
   ·VDMOSFET 的特点与应用第6-7页
   ·栅电阻的测试研究背景第7页
   ·论文的结构体系第7-8页
二、VDMOSFET 的结构与工作原理第8-13页
   ·功率半导体器件的介绍第8-9页
   ·VDMOSFET 的结构和制造工艺第9-11页
     ·VMOSFET 的发展第9-10页
     ·VDMOSFET 的结构和制造工艺第10-11页
   ·VDMOSFET 的工作原理第11-13页
三、栅电阻的组成与影响第13-23页
   ·引言第13页
   ·VDMOSFET 的等效电路模型第13-14页
   ·栅电阻的组成第14-16页
   ·栅电容的组成第16-18页
   ·栅电阻对开关性能的影响第18-20页
   ·如何降低栅电阻和栅电容第20-22页
   ·小结第22-23页
四、阻抗的测试方法和测试设备第23-30页
   ·引言第23页
   ·阻抗的测试方法第23-26页
   ·阻抗的测试设备第26-30页
五、栅电阻的测试和结果分析第30-38页
   ·引言第30页
   ·MIS 结构C-V 曲线第30-32页
   ·栅电阻的测试和结果分析第32-36页
   ·小结第36-38页
六、栅电阻测试的应用第38-40页
七、论文总结第40-42页
参考文献第42-44页
攻读硕士学位期间公开发表的论文第44-45页
致谢第45-46页
详细摘要第46-48页

论文共48页,点击 下载论文
上一篇:猪圆环病毒2型致病机理和重组腺病毒介导shRNA抑制PCV2在体内外复制的研究
下一篇:基于支持向量机的网络流量预测研究