| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-14页 |
| ·低介电常数材料的研究背景 | 第7-10页 |
| ·SiCOH 多孔（超）低k 材料的研究现状 | 第10-12页 |
| ·SiCOH 多孔（超）低k 材料的加工技术 | 第10-11页 |
| ·SiCOH 多孔（超）低k 材料的物性 | 第11-12页 |
| ·本小组 SiCOH 薄膜研究的主要进展 | 第12页 |
| ·本文的研究内容 | 第12-14页 |
| 第二章 SiCOH 薄膜的制备及表征方法 | 第14-28页 |
| ·SiCOH 薄膜的制备方法 | 第14-18页 |
| ·微波电子回旋共振等离子体（ECR Plasma）简介 | 第14-15页 |
| ·ECR 等离子体沉积薄膜方法与实验装置 | 第15-16页 |
| ·实验参数 | 第16-17页 |
| ·样品的退火处理 | 第17-18页 |
| ·SiCOH薄膜性能与结构的表征方法 | 第18-21页 |
| ·SiCOH 薄膜结构的傅立叶变换红外光谱表征 | 第18-21页 |
| ·SiCOH 薄膜的介电与电学性能的表征 | 第21页 |
| ·ECR放电等离子体特性的发射光谱分析 | 第21-25页 |
| ·等离子体发射光谱的产生机理 | 第22-23页 |
| ·相对辐射测量的定义 | 第23页 |
| ·放电等离子体中基团浓度的定量测量 | 第23页 |
| ·纯D5 及O 掺杂的气体放电等离子体发射光谱的测量方法 | 第23-25页 |
| ·SiCOH 薄膜润湿性能的水接触角（contact angle）表征 | 第25-28页 |
| 第三章 氧掺杂的 SiCOH 薄膜的介电、电学、吸水性能与键结构分析 | 第28-35页 |
| ·O掺杂SiCOH 薄膜的介电常数 | 第28-29页 |
| ·O掺杂SiCOH薄膜的漏电流 | 第29页 |
| ·O掺杂SiCOH 薄膜的键结构 | 第29-33页 |
| ·O掺杂SiCOH 薄膜的水接触角随02流量的变化 | 第33-35页 |
| 第四章 热处理对氧掺杂SiCOH薄膜结构和介电性能的影响 | 第35-40页 |
| ·SiCOH薄膜介电常数的变化 | 第35页 |
| ·SiCOH 薄膜的膜厚热稳定 | 第35-36页 |
| ·SiCOH 薄膜键结构的变化及分析 | 第36-38页 |
| ·O掺杂的SiCOH 薄膜经退火后水接触角的变化 | 第38-40页 |
| 第五章 总结 | 第40-42页 |
| ·本研究的主要结果 | 第40页 |
| ·存在的主要问题和进一步研究的方向 | 第40-42页 |
| 参考文献 | 第42-45页 |
| 附录：攻读学位期间公开发表的论文 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46-48页 |
| 详细摘要 | 第48-51页 |
