纳米尺度X射线衍射光学元器件的研究
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-7页 |
目录 | 第7-9页 |
第一章 前言 | 第9-16页 |
·X射线衍射光学元器件简介 | 第9-10页 |
·X射线衍射光栅介绍 | 第10-14页 |
·国内外X射线衍射光栅的研究状况 | 第14-15页 |
·论文的主要结构 | 第15-16页 |
第二章 自支撑X射线单极衍射光栅的制作 | 第16-28页 |
·自支撑X射线单极衍射光栅介绍 | 第16-18页 |
·自支撑结构的介绍 | 第16-17页 |
·单极衍射光栅介绍 | 第17-18页 |
·自支撑X射线单极衍射光栅的制作工艺流程 | 第18-27页 |
·电子束光刻制作掩模 | 第20-23页 |
·X射线光刻复制 | 第23-24页 |
·镂空结构的制作 | 第24-27页 |
·本章小结 | 第27-28页 |
第三章 关键工艺技术研究 | 第28-54页 |
·电子束光刻技术 | 第28-33页 |
·电子束光刻系统介绍 | 第28-31页 |
·电子束光刻工艺研究 | 第31-33页 |
·X射线光刻技术 | 第33-45页 |
·X射线光刻介绍 | 第33-35页 |
·光刻站介绍 | 第35-37页 |
·曝光器材及药品 | 第37-39页 |
·X射线光刻工艺研究 | 第39-45页 |
·其他相关工艺 | 第45-52页 |
·光学光刻技术 | 第45-46页 |
·微电镀工艺 | 第46-49页 |
·电子束蒸发 | 第49-50页 |
·等离子体刻蚀 | 第50-51页 |
·体硅腐蚀 | 第51-52页 |
·本章小结 | 第52-54页 |
第四章 总结与展望 | 第54-56页 |
·本文工作总结 | 第54页 |
·工作展望 | 第54-56页 |
参考文献 | 第56-61页 |
致谢 | 第61-63页 |
攻读硕士期间发表的论文和申请的专利 | 第63页 |