多弧离子镀制备TiN/A1N纳米多层膜及其性能的研究

摘要	第1-3页
Abstract	第3-7页
第一章 文献综述	第7-20页
·离子镀技术的发展	第7页
·多弧离子镀技术	第7-12页
·多弧离子镀原理	第8页
·多弧离子镀工艺参数	第8-10页
·多弧离子镀技术的针孔及颗粒问题	第10-11页
·多弧离子镀技术的应用	第11-12页
·多弧离子镀技术的发展	第12页
·薄膜形成原理	第12-16页
·晶核的形成及其生长方式	第12-13页
·薄膜形成的热力学条件	第13-15页
·晶核形成速度	第15-16页
·TiN基薄膜研究进展	第16-17页
·TiN基薄膜多元化进展	第16页
·TiN基薄膜的双重处理	第16-17页
·TiN基薄膜多层化发展	第17页
·纳米多层膜	第17-18页
·纳米多层膜的分类	第18页
·纳米多层膜的应用前景	第18页
·TiN／AlN纳米多层膜的研究现状	第18页
·本研究的内容及意义	第18-19页
·本研究的内容	第18-19页
·本研究的意义	第19页
·本研究执行的技术路线	第19-20页
第二章 试验设备及方法	第20-26页
·实验材料	第20页
·实验前基体试样的预处理	第20页
·镀膜设备	第20-21页
·实验流程	第21-22页
·辉光清洗原理及作用	第21页
·弧光清洗原理及作用	第21-22页
·结合力的测定	第22-23页
·硬度的检测	第23页
·表面形貌、显微结构的观测以及薄膜的物相分析	第23页
·膜层的抗氧化性能试验	第23页
·膜层的耐腐蚀性能试验	第23-24页
·TiN薄膜沉积工艺设计	第24页
·初步正交实验设计	第24页
·沉积工艺设计	第24页
·TiN／AlN薄膜沉积工艺设计	第24页
·TiN／AlN多层膜结构设计	第24-26页
第三章 TiN薄膜的制备及性能分析	第26-39页
·多弧离子镀制备TiN薄膜的工艺研究	第26-35页
·正交实验	第26-29页
·沉积工艺	第26页
·正交实验结果	第26-27页
·正交实验结果分析	第27-28页
·正交实验后的工艺优化	第28-29页
·负偏压的影响	第29-31页
·沉积工艺	第29页
·偏压对表面形貌及薄膜色泽的影响	第29-30页
·偏压对膜层厚度、薄膜硬度及膜基结合力的影响	第30-31页
·氮气分压的影响	第31-33页
·沉积工艺	第31-32页
·氮气分压对TiN膜层表面形貌及色泽的影响	第32-33页
·沉积时间的影响	第33-35页
·沉积工艺	第33-34页
·沉积时间对生长速率、硬度及结合力的影响	第34-35页
·最佳工艺下制备TiN薄膜的形貌观察及物相分析	第35-39页
第四章 TiN／AlN多层膜的制备及结构分析	第39-47页
·制备工艺	第39页
·TiN／AlN薄膜的表面形貌观察	第39-41页
·TiN／AlN薄膜的物相结构分析	第41-42页
·TiN／AlN纳米多层的调制结构表征	第42-43页
·TiN／AlN纳米多层膜的超硬效应	第43-44页
·TiN／AlN纳米多层膜超硬现象分析	第44页
·TiN／AlN纳米多层膜结合力的测定	第44-45页
·TiN／AlN超晶格纳米多层膜讨论	第45-47页
·TiN／AlN纳米多层膜亚稳态立方相生长的条件	第45页
·TiN／AlN纳米多层膜亚稳态立方相生长理论	第45-47页
第五章 TiN／AlN薄膜的性能分析	第47-54页
·TiN／AlN薄膜的耐腐蚀性能	第47-49页
·浸泡实验	第47-48页
·极化曲线的测定	第48-49页
·TiN／AlN薄膜的抗氧化性能	第49-53页
·实验结论	第49-52页
·抗氧化性能分析	第52-53页
·薄膜的使用效果	第53-54页
第六章 结论	第54-55页
参考文献	第55-58页
致谢	第58-59页
附录	第59页