抛光工具表面构造对液流悬浮加工特性影响的研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-20页 |
| ·课题的研究意义及背景 | 第11页 |
| ·超精密加工技术的发展与研究现状 | 第11-13页 |
| ·游离磨粒加工方法及分类 | 第13-17页 |
| ·游离磨粒加工方法 | 第13页 |
| ·游离磨粒加工方法分类 | 第13-17页 |
| ·液流悬浮加工方法 | 第17-18页 |
| ·本课题的主要研究内容 | 第18-20页 |
| 第2章 液流悬浮加工的理论研究 | 第20-31页 |
| ·凹槽形抛光工具加工原理 | 第20-21页 |
| ·加工过程中的材料去除机理 | 第21-25页 |
| ·单颗磨粒受力分析 | 第21-23页 |
| ·单个磨粒的材料去除量 | 第23-24页 |
| ·单位时间内的粗糙度去除量 | 第24-25页 |
| ·加工区域流体流动模型 | 第25-26页 |
| ·理论模型 | 第25-26页 |
| ·本课题所用的理论模型 | 第26页 |
| ·速度分布 | 第26-28页 |
| ·流量计算 | 第28页 |
| ·动压力分布 | 第28-29页 |
| ·动压力分布模型 | 第28-29页 |
| ·凹槽对动压力分布影响 | 第29页 |
| ·本章小结 | 第29-31页 |
| 第3章 凹槽形抛光工具对流场影响的数值研究 | 第31-42页 |
| ·不同形状抛光工具流场的数值模拟 | 第31-35页 |
| ·抛光工具设计 | 第31-32页 |
| ·计算区域及计算模型 | 第32页 |
| ·流体动压力分布 | 第32-34页 |
| ·流体速度分布 | 第34-35页 |
| ·凹槽形抛光工具加工流场的非定常特性分析 | 第35-41页 |
| ·液流悬浮加工区域数学模型 | 第35-38页 |
| ·计算结果及分析 | 第38-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第4章 抛光系统的改进及实验研究 | 第42-56页 |
| ·抛光工具模块 | 第42-45页 |
| ·抛光工具制作 | 第42-43页 |
| ·抛光工具材料的加工特性 | 第43页 |
| ·抛光工具表面凹槽的加工 | 第43-45页 |
| ·夹具模块 | 第45-46页 |
| ·测力模块 | 第46-47页 |
| ·凹槽形抛光工具精整加工实验研究 | 第47-48页 |
| ·抛光工具表面凹槽对抛光效果的影响 | 第48-50页 |
| ·凹槽设计参数对流体动压力影响 | 第50-53页 |
| ·凹槽宽度与流体动压力关系的实验研究 | 第51-52页 |
| ·凹槽深度与流体动压力关系的实验研究 | 第52页 |
| ·凹槽密度与流体动压力关系的实验研究 | 第52-53页 |
| ·凹槽设计参数对抛光效果的影响 | 第53-55页 |
| ·凹槽深度对抛光效果的影响 | 第53-54页 |
| ·凹槽宽度对抛光效果的影响 | 第54页 |
| ·凹槽密度对抛光效果的影响 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第5章 抛光液的配置与特性研究 | 第56-66页 |
| ·抛光液中磨粒的选择 | 第56-60页 |
| ·磨粒应具有的基本性能 | 第56-58页 |
| ·磨粒的选用 | 第58-60页 |
| ·基载液 | 第60页 |
| ·基载液的特性 | 第60页 |
| ·基载液的选择 | 第60页 |
| ·表面活性剂 | 第60-62页 |
| ·表面活性剂的功能 | 第61页 |
| ·表面活性剂对颗粒的分散作用 | 第61-62页 |
| ·PH 值调节剂的选择 | 第62-63页 |
| ·抛光液配制流程 | 第63页 |
| ·抛光液的性能指标 | 第63-65页 |
| ·抛光液的粘度 | 第63-64页 |
| ·抛光液的沉淀性 | 第64-65页 |
| ·抛光液的分散性 | 第65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第6章 结论与展望 | 第66-68页 |
| ·结论 | 第66-67页 |
| ·未来展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 攻读学位期间参加的科研项目和成果 | 第72页 |
