摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-15页 |
第一章 宏观取向介孔薄膜的制备、影响因素和应用 | 第15-47页 |
·介孔薄膜的制备原理 | 第15-20页 |
·介孔薄膜形成的机理 | 第16-19页 |
·介孔材料孔径的控制 | 第19-20页 |
·宏观取向介孔薄膜的定义和关键表征技术 | 第20-22页 |
·宏观取向介孔薄膜的定义 | 第20页 |
·面探 X 射线衍射仪对介孔薄膜取向性的表征技术 | 第20-22页 |
·制备宏观取向介孔薄膜的研究进展 | 第22-32页 |
·基底取向模板法 | 第23-29页 |
·外加场法 | 第29-31页 |
·各种制备方法的比较 | 第31-32页 |
·宏观取向介孔薄膜制备过程中的影响因素 | 第32-34页 |
·pH 值 | 第32页 |
·硅前体和表面活性剂的比例 | 第32-33页 |
·反应温度 | 第33页 |
·后处理的方法 | 第33页 |
·煅烧方式 | 第33-34页 |
·宏观取向介孔薄膜的应用探索 | 第34-38页 |
·控制有机聚合物分子链的取向得到各向异性光学特性的薄膜 | 第34-36页 |
·控制小分子染料的取向得到各向异性光学特性的薄膜 | 第36页 |
·控制无机金属纳米线的取向得到各向异性光学特性的薄膜 | 第36-38页 |
·本论文的研究目的和研究内容 | 第38-39页 |
参考文献 | 第39-47页 |
第二章 激光诱导微沟槽表面制备宏观取向介孔薄膜的研究 | 第47-82页 |
·引言 | 第47-48页 |
·材料与表征 | 第48-52页 |
·试剂与仪器 | 第48-49页 |
·激光诱导微沟槽表面的制备 | 第49-50页 |
·宏观取向介孔薄膜的制备 | 第50-52页 |
·表征技术 | 第52页 |
·SBA-15 型宏观取向介孔薄膜的结果和讨论 | 第52-68页 |
·浸渍提拉法(Dip-coating)制备SBA-15 型宏观取向介孔薄膜的结构分析 | 第52-60页 |
·表面微沟槽的特征参数对介孔孔道定向性的影响 | 第60-63页 |
·旋转涂膜法(spin-coating)对制备 SBA-15 型宏观取向介孔薄膜的影响 | 第63-68页 |
·SBA-3 型宏观取向介孔薄膜结果和讨论 | 第68-75页 |
·浸渍提拉法制备 SBA-3 型宏观取向介孔薄膜的结构分析 | 第68-73页 |
·旋转涂膜法对制备SBA-3 型宏观取向介孔薄膜的影响 | 第73-75页 |
·LIPS 表面上形成宏观取向介相薄膜的生长机理 | 第75-77页 |
·本章小结 | 第77-78页 |
参考文献 | 第78-82页 |
第三章 宏观取向介孔薄膜的图案化制备研究——宏观和微观双重控制介孔薄膜的生长 | 第82-108页 |
·引言 | 第82-84页 |
·材料与表征 | 第84-87页 |
·试剂与仪器 | 第84-85页 |
·图案化激光诱导微沟槽表面的制备 | 第85-86页 |
·选择性生长的宏观取向介孔薄膜的制备 | 第86页 |
·掺杂碲化镉(CdTe)量子点的图案化介相薄膜的制备 | 第86页 |
·表征技术 | 第86-87页 |
·宏观控制介孔薄膜的选择性生长 | 第87-100页 |
·图案化的介相薄膜的 POM、SEM 和 EDS 分析 | 第87-88页 |
·介相薄膜选择性生长的原因分析 | 第88-94页 |
·不同制备参数对选择性生长的介相薄膜的影响 | 第94-99页 |
·复杂的图案化介相二氧化硅薄膜 | 第99-100页 |
·选择性生长的介孔薄膜内孔道的定向排列 | 第100-102页 |
·HR-TEM 观察定向排列的介孔孔道 | 第100-101页 |
·In-plane XRD 检测介孔薄膜的孔道的定向排列 | 第101-102页 |
·图案化掺杂介相薄膜 | 第102-104页 |
·本章小结 | 第104页 |
参考文献 | 第104-108页 |
第四章 空气热气流法制备多层取向介孔薄膜 | 第108-137页 |
·引言 | 第108-109页 |
·材料与表征 | 第109-111页 |
·试剂与仪器 | 第109页 |
·气流法制备取向介孔薄膜 | 第109-111页 |
·激光衍射法检验薄膜取向性 | 第111页 |
·气流法制备的 SBA-15 取向介孔薄膜 | 第111-128页 |
·单层SBA-15 型取向介孔薄膜的结构分析 | 第112-120页 |
·气流速度对介孔孔道定向性的影响 | 第120-122页 |
·气流法制备双层 SBA-15 型取向介孔薄膜 | 第122-128页 |
·气流法制备 SBA-3 型取向介孔薄膜 | 第128-132页 |
·SBA-3 型取向介孔薄膜的结构分析 | 第128-130页 |
·气流法与摩擦聚酰亚胺基底联用分析 | 第130-132页 |
·气流法机理讨论 | 第132-134页 |
·本章小结 | 第134页 |
参考文献 | 第134-137页 |
第五章填充量子点的取向介孔薄膜在能源转换中的应用探索 | 第137-175页 |
·引言 | 第137-141页 |
·材料与表征 | 第141-145页 |
·试剂与仪器 | 第141页 |
·掺杂镉离子的 SBA-15 型宏观取向介相薄膜的制备 | 第141页 |
·后处理法在取向介孔孔道中生成硫化镉量子点 | 第141-143页 |
·双层(上下层生成不同吸收波长量子点)填充取向介孔薄膜的制备 | 第143页 |
·表征技术 | 第143页 |
·以填充的取向介孔薄膜为工作电极的光电性能的检测 | 第143-144页 |
·太阳能电池的性能表征技术 | 第144-145页 |
·单层硫化镉量子点填充的宏观取向介孔薄膜的结构 | 第145-152页 |
·硫化镉量子点填充的取向介孔薄膜的光学显微镜分析 | 第145-147页 |
·硫化镉量子点填充的介相薄膜的 XRD 分析 | 第147-148页 |
·硫化镉量子点填充介孔薄膜的 HR-TEM 分析 | 第148-150页 |
·填充硫化镉量子点的介孔材料的氮气吸附分析 | 第150-151页 |
·硫化镉量子点填充介孔薄膜的In-plane XRD 分析 | 第151-152页 |
·单层硫化镉量子点填充取向介孔薄膜的光电性能 | 第152-162页 |
·硫化镉量子点填充取向介孔薄膜的光学性能 | 第153-156页 |
·硫化镉量子点填充取向介孔薄膜的光电转换性能 | 第156-162页 |
·双层硫化铅/硫化镉量子点填充取向介孔薄膜的制备 | 第162-168页 |
·双层的硫化铅/硫化镉量子点填充宏观取向介孔薄膜的结构 | 第163-165页 |
·双层的硫化铅/硫化镉量子点填充取向介孔薄膜的光伏特性 | 第165-168页 |
·本章小结 | 第168页 |
参考文献 | 第168-175页 |
第六章全文总结和未来工作的展望 | 第175-180页 |
·全文总结 | 第175-176页 |
·主要创新点 | 第176-178页 |
·以激光诱导微沟槽表面为基底制备SBA-15/3型宏观取向介孔薄膜 | 第176-177页 |
·利用图案化激光诱导微沟槽表面能选择性生长宏观取向介孔薄膜——实现宏观和微观双重控制介孔薄膜的生长 | 第177页 |
·利用气流法简单地控制介孔薄膜内孔道的定向排列从而制备出单层甚至多层宏观取向介孔薄膜 | 第177页 |
·硫化镉量子点填充的取向介孔薄膜实现了光电转换并提出多层分波长吸收太阳能薄膜电池的模型设计 | 第177-178页 |
·展望 | 第178-180页 |
·纯有机、纯碳或纯金属宏观取向介孔薄膜的尝试 | 第178页 |
·宏观取向介孔薄膜的孔道中引入聚苯胺类光电转换的客体材料 | 第178-179页 |
·能源转换问题和相关的解决方案 | 第179-180页 |
致谢 | 第180-182页 |
攻读博士学位期间发表的论文 | 第182-183页 |
攻读博士学位期间申请的专利 | 第183-185页 |