905nm窄带滤光片的设计与制备

摘要	第1-5页
Abstract	第5-7页
第一章 绪论	第7-11页
·概述	第7-8页
·窄带滤光片的发展现状	第8-9页
·国内研究现状	第8-9页
·国外研究现状	第9页
·研究背景及内容	第9-11页
第二章 膜系的设计	第11-27页
·薄膜干涉理论	第11-14页
·窄带滤光片的理论设计基础	第14-18页
·法布里-玻珞滤光片	第14-17页
·多半波滤光片	第17-18页
·窄带滤光片的基础膜系设计	第18-22页
·膜层材料的选择	第18-19页
·膜系设计	第19-22页
·优化	第22-27页
·膜系等效折射率原理	第22-23页
·通带存在波纹的原因	第23-25页
·优化方法	第25-27页
第三章 膜层的制备	第27-40页
·镀膜设备	第27-28页
·工艺因素	第28-29页
·膜层厚度的监控	第29-32页
·晶控原理	第29-31页
·光控原理	第31-32页
·膜厚监控分析	第32-33页
·APS源	第33-36页
·等离子辅助沉积技术原理	第33-34页
·等离子体辅助沉积对膜层结构的影响	第34-36页
·窄带滤光膜的制备经过	第36-40页
·设备的操作规程	第36-37页
·窄带滤光片的制备工艺流程	第37-39页
·镀膜过程中的注意事项	第39-40页
第四章 测试结果与分析	第40-42页
·膜层光学性能的测试	第40-41页
·膜层机械性能的测试	第41-42页
总结	第42-43页
致谢	第43-44页
参考文献	第44-45页