| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·序言 | 第8页 |
| ·酞菁化合物 | 第8-11页 |
| ·金属酞菁化合物的结构及性质 | 第8-9页 |
| ·金属酞菁化合物的合成 | 第9-11页 |
| ·金属酞菁化合物自组装膜 | 第11-15页 |
| ·自组装膜概论 | 第11-12页 |
| ·自组装膜的表征 | 第12-14页 |
| ·静电功能自组装膜 | 第14-15页 |
| ·酞菁化合物的电化学研究 | 第15-18页 |
| ·修饰电极的制备 | 第15-17页 |
| ·循环伏安法简介 | 第17-18页 |
| ·计时电流法简介 | 第18页 |
| ·金属酞菁修饰电极电催化研究现状 | 第18页 |
| ·本文的立意及研究内容 | 第18-20页 |
| ·选题立意 | 第18-19页 |
| ·研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 实验部分 | 第20-23页 |
| ·试剂及仪器 | 第20-21页 |
| ·四磺化金属酞菁的合成 | 第21页 |
| ·静电自组装膜的制备 | 第21-22页 |
| ·自组装膜的测试和表征 | 第22页 |
| ·自组装多层膜电极的制备及电催化性能测试和表征 | 第22-23页 |
| 第三章 磺化酞菁氧钛自组装膜的制备及电化学性能测试 | 第23-43页 |
| ·四磺化酞菁氧钛的制备 | 第23-25页 |
| ·4-磺酸钾基邻苯二甲酸的合成 | 第23页 |
| ·四磺化酞菁氧钛的合成 | 第23-24页 |
| ·合成产物的表征 | 第24-25页 |
| ·四磺化酞菁氧钛的自组装膜的制备及表征 | 第25-32页 |
| ·DR的制备 | 第25-26页 |
| ·四磺化酞菁氧钛静电自组装膜的制备 | 第26页 |
| ·四磺化酞菁氧钛静电自组装膜的紫外-可见光谱分析 | 第26-30页 |
| ·四磺化酞菁氧钛静电自组装膜的原子力显微镜分析 | 第30-32页 |
| ·四磺化酞菁氧钛静电自组装膜电极的电化学测试及分析 | 第32-43页 |
| ·玻碳电极预处理 | 第32-33页 |
| ·玻碳电极上4-氨基苯甲酸单层膜的制备 | 第33-36页 |
| ·GCE/4-ABA/DR/TiOTsPc多层膜电极的制备 | 第36-37页 |
| ·GCE/4-ABA/DR/TiOTsPc多层膜电极对NaNO_2的电催化行为 | 第37-43页 |
| 第四章 四磺化酞菁铁自组装膜的制备及电化学性能测试 | 第43-53页 |
| ·四磺化酞菁铁的制备 | 第43-45页 |
| ·四磺化酞菁铁的合成 | 第43页 |
| ·四磺化酞菁铁的表征 | 第43-45页 |
| ·四磺化酞菁铁的自组装膜的制备及表征 | 第45-49页 |
| ·四磺化酞菁氧钛静电自组装膜的制备 | 第45页 |
| ·四磺化酞菁铁静电自组装膜的紫外-可见光谱分析 | 第45-47页 |
| ·四磺化酞菁铁静电自组装膜的原子力显微镜分析 | 第47-49页 |
| ·四磺化酞菁铁静电自组装膜电极的电化学测试及分析 | 第49-53页 |
| ·GCE/4-ABA/DR/FeTsPc多层膜电极的制备 | 第49页 |
| ·GCE/4-ABA/DR/FeTsPc多层膜电极对NH_2NH_2的电催化行为 | 第49-53页 |
| 第五章 结论 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
| 附录 | 第57页 |
