| 摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3-4页 |
| 1 绪论 | 第8-20页 |
| 1.1 氨气的性质、来源及危害 | 第8-10页 |
| 1.1.1 氨气的性质 | 第8页 |
| 1.1.2 氨气的来源 | 第8-9页 |
| 1.1.3 氨气的危害 | 第9-10页 |
| 1.2 氨气排放控制技术 | 第10-12页 |
| 1.2.1 生物法 | 第10页 |
| 1.2.2 吸收法 | 第10-11页 |
| 1.2.3 吸附法 | 第11页 |
| 1.2.4 等离子体活化法 | 第11页 |
| 1.2.5 光催化氧化法 | 第11页 |
| 1.2.6 催化分解法 | 第11页 |
| 1.2.7 选择性催化氧化法(SCO) | 第11-12页 |
| 1.3 氨气催化氧化反应机理 | 第12-13页 |
| 1.3.1 NH机理 | 第12-13页 |
| 1.3.2 NH_2-NH_2机理 | 第13页 |
| 1.3.3 iSCR机理 | 第13页 |
| 1.4 氨气催化氧化催化剂 | 第13-16页 |
| 1.4.1 贵金属催化剂 | 第13-14页 |
| 1.4.2 过渡金属催化剂 | 第14-16页 |
| 1.5 铜和铈的催化研究背景 | 第16-18页 |
| 1.6 本论文研究目的与内容 | 第18-20页 |
| 2 实验部分 | 第20-25页 |
| 2.1 实验试剂和仪器 | 第20-21页 |
| 2.2 催化剂的表征 | 第21-22页 |
| 2.2.1 比表面积(BET)及孔结构测定 | 第21页 |
| 2.2.2 X-射线衍射(XRD)测试 | 第21-22页 |
| 2.2.3 透射电子显微镜(TEM) | 第22页 |
| 2.2.4 高倍透射电子显微镜 | 第22页 |
| 2.2.5 激光共聚焦显微拉曼 | 第22页 |
| 2.2.6 X-射线光电子能谱 | 第22页 |
| 2.2.7 H_2-程序升温还原反应 | 第22页 |
| 2.2.8 NH_3-程序升温脱附 | 第22页 |
| 2.3 催化剂性能测试 | 第22-25页 |
| 2.3.1 催化活性测试 | 第22-23页 |
| 2.3.2 催化反应动力学测试 | 第23-25页 |
| 3 特定形貌Cu-Ce催化剂的NH_3催化氧化性能研究 | 第25-39页 |
| 3.1 引言 | 第25页 |
| 3.2 催化剂的制备 | 第25-26页 |
| 3.3 催化剂的结构研究 | 第26-32页 |
| 3.3.1 TEM和HRTEM分析 | 第26-28页 |
| 3.3.2 XRD分析 | 第28-29页 |
| 3.3.3 N_2吸脱附分析 | 第29-30页 |
| 3.3.4 Raman分析 | 第30-32页 |
| 3.4 催化剂化学及电子性质研究 | 第32-35页 |
| 3.4.1 XPS分析 | 第32-33页 |
| 3.4.2 H_2-TPR分析 | 第33-34页 |
| 3.4.3 NH_3-TPD分析 | 第34-35页 |
| 3.5 催化剂的NH_3-SCO性能研究 | 第35-38页 |
| 3.5.1 催化活性和N2选择性研究 | 第35-37页 |
| 3.5.2 反应动力学研究 | 第37-38页 |
| 3.6 本章小结 | 第38-39页 |
| 4 复合方式对Cu-Ce催化剂的NH_3催化氧化性能影响 | 第39-49页 |
| 4.1 引言 | 第39页 |
| 4.2 催化剂的制备 | 第39-40页 |
| 4.3 催化剂的NH_3-SCO性能研究 | 第40-43页 |
| 4.3.1 催化活性和N2选择性 | 第40-41页 |
| 4.3.2 催化剂稳定性能测试 | 第41-43页 |
| 4.4 催化剂表面性质研究 | 第43-47页 |
| 4.4.1 XRD分析 | 第43-44页 |
| 4.4.2 TEM分析 | 第44-45页 |
| 4.4.3 N_2吸脱附分析 | 第45-46页 |
| 4.4.4 H_2-TPR分析 | 第46-47页 |
| 4.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-55页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-58页 |