| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第14-38页 |
| 1.1 有机场效应晶体管的发展和应用 | 第14-16页 |
| 1.1.1 有机场效应晶体管的发展 | 第14-16页 |
| 1.1.2 有机场效应晶体管的应用 | 第16页 |
| 1.2 半导体的能带 | 第16-17页 |
| 1.3 有机场效应晶体管的基本结构及原理 | 第17-19页 |
| 1.4 有机场效应晶体管的材料 | 第19-22页 |
| 1.5 有机场效应晶体管的基本参数 | 第22-24页 |
| 1.5.1 输出特性曲线和转移特性曲线 | 第22-23页 |
| 1.5.2 阈值电压 | 第23页 |
| 1.5.3 场效应迁移率 | 第23-24页 |
| 1.5.4 电流开关比 | 第24页 |
| 1.5.5 亚阈值斜率 | 第24页 |
| 1.6 影响有机场效应晶体管性能的因素 | 第24-29页 |
| 1.7 光催化剂研究背景 | 第29-31页 |
| 1.8 半导体光催化的基本原理 | 第31页 |
| 1.9 半导体光催化的应用 | 第31-32页 |
| 1.10 光催化性能的影响因素 | 第32-34页 |
| 1.11 酞菁及其衍生物的光催化 | 第34-35页 |
| 1.12 苝酰亚胺及其衍生物的光催化 | 第35-36页 |
| 1.13 本文选题思路和研究的主要内容 | 第36-38页 |
| 第2章 实验试剂与材料表征 | 第38-43页 |
| 2.1 实验试剂及仪器 | 第38页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第38页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第38页 |
| 2.2 真空沉积制备有机薄膜和金属电极 | 第38-40页 |
| 2.3 表征方法 | 第40-43页 |
| 2.3.1 傅里叶红外光谱(FT-IR) | 第40页 |
| 2.3.2 紫外-可见吸收光谱（UV-Vis） | 第40-41页 |
| 2.3.3 场发射扫描电子显微镜（FE-SEM） | 第41页 |
| 2.3.4 X射线衍射（XRD） | 第41页 |
| 2.3.5 原子力显微镜（AFM） | 第41-43页 |
| 第3章 酞菁铜薄膜形貌和场效应晶体管性能研究 | 第43-57页 |
| 3.1 引言 | 第43页 |
| 3.2 实验部分 | 第43-47页 |
| 3.2.1 基片的清洗 | 第43页 |
| 3.2.2 硅片表面的修饰 | 第43-44页 |
| 3.2.3 酞菁铜薄膜的制备 | 第44-45页 |
| 3.2.4 酞菁铜薄膜的表征 | 第45页 |
| 3.2.5 酞菁铜薄膜场效应晶体管的制备 | 第45页 |
| 3.2.6 酞菁铜薄膜场效应晶体管的性能测试 | 第45-47页 |
| 3.3 溶剂蒸汽处理对酞菁铜薄膜形貌的影响 | 第47-51页 |
| 3.4 紫外-可见吸收光谱分析 | 第51-52页 |
| 3.5 X射线衍射光谱分析 | 第52-53页 |
| 3.6 酞菁铜场效应晶体管的性能 | 第53-55页 |
| 3.7 本章小结 | 第55-57页 |
| 第4章 酞菁铁薄膜形貌、基质和光催化性能研究 | 第57-75页 |
| 4.1 引言 | 第57页 |
| 4.2 实验部分 | 第57-59页 |
| 4.2.1 基片的清洗 | 第57页 |
| 4.2.2 酞菁铁薄膜的制备 | 第57-58页 |
| 4.2.3 酞菁铁薄膜的表征 | 第58页 |
| 4.2.4 光催化性能测试 | 第58页 |
| 4.2.5 光电流测试分析 | 第58-59页 |
| 4.3 罗丹明B降解率的测定 | 第59-60页 |
| 4.4 红外光谱分析 | 第60-61页 |
| 4.5 溶剂蒸汽处理对酞菁铁薄膜形貌及光催化性能的影响 | 第61-66页 |
| 4.5.1 溶剂蒸汽处理对酞菁铁薄膜形貌的影响 | 第61-62页 |
| 4.5.2 紫外-可见吸收光谱分析 | 第62-63页 |
| 4.5.3 X射线衍射光谱分析 | 第63-65页 |
| 4.5.4 光催化特性 | 第65-66页 |
| 4.6 沉积基质对酞菁铁薄膜形貌及光催化性能的影响 | 第66-69页 |
| 4.7 酞菁铁薄膜沉积基质和厚度对光催化性能的影响 | 第69-70页 |
| 4.8 酞菁铁薄膜的光催化机理 | 第70页 |
| 4.9 酞菁铁薄膜光催化剂的稳定性 | 第70-73页 |
| 4.10 本章小结 | 第73-75页 |
| 第5章 苝酰亚胺薄膜形貌及光催化性能研究 | 第75-85页 |
| 5.1 引言 | 第75页 |
| 5.2 实验部分 | 第75-78页 |
| 5.2.1 基片的清洗 | 第75页 |
| 5.2.2 苝酰亚胺薄膜的制备 | 第75页 |
| 5.2.3 苝酰亚胺薄膜的表征 | 第75页 |
| 5.2.4 光催化性能测试 | 第75-77页 |
| 5.2.5 罗丹明B降解率的测定 | 第77页 |
| 5.2.6 光电流测试分析 | 第77-78页 |
| 5.3 苝酰亚胺薄膜形貌及光催化性能 | 第78-82页 |
| 5.3.1 沉积基质温度对苝酰亚胺薄膜形貌的影响 | 第78页 |
| 5.3.2 原子力显微镜分析 | 第78-79页 |
| 5.3.3 紫外-可见吸收光谱分析 | 第79-80页 |
| 5.3.4 苝酰亚胺薄膜光催化性能 | 第80-82页 |
| 5.4 不同基质温度苝酰亚胺薄膜的光电流 | 第82-84页 |
| 5.5 本章小结 | 第84-85页 |
| 结论 | 第85-87页 |
| 参考文献 | 第87-101页 |
| 攻读博士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第101-103页 |
| 致谢 | 第103-104页 |
