热丝化学气相沉积（HFCVD）金刚石涂层设备整体方案设计
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 1.绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 金刚石性能 | 第11-12页 |
| 1.3 金刚石薄膜发展历史 | 第12-13页 |
| 1.4 金刚石薄膜制备方法 | 第13-17页 |
| 1.5 金刚石薄膜应用领域 | 第17-19页 |
| 1.6 本文主要研究内容 | 第19-21页 |
| 2.HFCVD金刚石涂层沉积设备概述 | 第21-26页 |
| 2.1 引言 | 第21页 |
| 2.2 HFCVD金刚石涂层沉积原理 | 第21-23页 |
| 2.3 HFCVD金刚石涂层沉积工艺 | 第23-24页 |
| 2.4 HFCVD金刚石涂层沉积设备结构 | 第24-25页 |
| 2.5 本章小结 | 第25-26页 |
| 3.HFCVD金刚石涂层沉积设备台架设计 | 第26-42页 |
| 3.1 引言 | 第26页 |
| 3.2 台架结构设计 | 第26-28页 |
| 3.3 反应腔体支撑梁强度校核 | 第28-37页 |
| 3.4 台架布局方案设计 | 第37-40页 |
| 3.5 本章小结 | 第40-42页 |
| 4.HFCVD金刚石涂层沉积设备冷却水路设计 | 第42-63页 |
| 4.1 引言 | 第42页 |
| 4.2 冷却水循环系统方案设计 | 第42-45页 |
| 4.3 冷却水循环系统细节设计 | 第45-54页 |
| 4.4 腔体上盖冷却水道测试实验 | 第54-58页 |
| 4.5 冷却水循环系统实际工作流速设计 | 第58-62页 |
| 4.6 本章小结 | 第62-63页 |
| 5.HFCVD金刚石涂层沉积设备气动回路设计 | 第63-79页 |
| 5.1 引言 | 第63页 |
| 5.2 气动回路方案设计 | 第63-65页 |
| 5.3 气动回路模型建立 | 第65-69页 |
| 5.4 关键气动元件选型 | 第69-77页 |
| 5.5 本章小结 | 第77-79页 |
| 6.HFCVD金刚石涂层沉积设备辅助系统设计 | 第79-87页 |
| 6.1 引言 | 第79页 |
| 6.2 HFCVD温度控制系统设计 | 第79-84页 |
| 6.3 用户界面(GUI)显示设计 | 第84-85页 |
| 6.4 联动报警系统规划 | 第85-86页 |
| 6.5 本章小结 | 第86-87页 |
| 7.总结与展望 | 第87-90页 |
| 7.1 主要工作及全文总结 | 第87-88页 |
| 7.2 下一步工作的展望 | 第88-90页 |
| 致谢 | 第90-91页 |
| 参考文献 | 第91-96页 |
| 附录1 攻读学位期间科研成果目录 | 第96页 |
