| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 铁电材料的简介 | 第11-12页 |
| 1.3 钛酸钡材料简介 | 第12-16页 |
| 1.3.1 钛酸钡的结构特点及结构相变 | 第12-14页 |
| 1.3.2 钛酸钡的主要性质 | 第14-16页 |
| 1.4 钛酸钡材料的研究历史及用途 | 第16-17页 |
| 1.5 本文的主要研究工作 | 第17-19页 |
| 参考文献 | 第19-21页 |
| 第2章 薄膜样品的制备方法和表征手段 | 第21-35页 |
| 2.1 靶材制备 | 第21-24页 |
| 2.2 薄膜制备方法 | 第24-27页 |
| 2.2.1 脉冲激光沉积法 | 第24-26页 |
| 2.2.2 磁控溅射法 | 第26页 |
| 2.2.3 溶胶-凝胶法 | 第26-27页 |
| 2.3 表征手段 | 第27-32页 |
| 2.3.1 X射线衍射和X射线反射 | 第27-28页 |
| 2.3.2 光学二次谐波 | 第28-29页 |
| 2.3.3 扫描探针显微镜 | 第29-32页 |
| 2.4 本章小结 | 第32-33页 |
| 参考文献 | 第33-35页 |
| 第3章 BTO/LCMO/STO异质结构的制备及其性能的研究 | 第35-45页 |
| 3.1 衬底的选择及清洗 | 第35页 |
| 3.2 用脉冲激光沉积(PLD)设备制备LCMO缓冲层和BTO薄膜 | 第35-37页 |
| 3.3 样品的表征 | 第37-42页 |
| 3.3.1 LCMO缓冲层的形貌分析 | 第37-38页 |
| 3.3.2 LCMO缓冲层的XRD表征 | 第38-39页 |
| 3.3.3 BTO薄膜的XRD表征 | 第39-40页 |
| 3.3.4 BTO薄膜的形貌分析 | 第40页 |
| 3.3.5 BTO薄膜铁电性能的研究 | 第40-42页 |
| 3.3.6 BTO薄膜电学性能的研究 | 第42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-45页 |
| 第4章 温度对BTO薄膜表面电荷动力学的影响 | 第45-59页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 BTO/LCMO/STO样品的制备 | 第45-46页 |
| 4.3 BTO/LCMO/STO的表征 | 第46-56页 |
| 4.3.1 BTO/LCMO/STO的变温XRD表征 | 第46-47页 |
| 4.3.2 BTO/LCMO/STO的变温SHG表征 | 第47-49页 |
| 4.3.3 温度对BTO/LCMO/STO畴结构的影响 | 第49-52页 |
| 4.3.4 温度对BTO/LCMO/STO表面电荷的影响 | 第52-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-59页 |
| 第5章 总结与展望 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61-63页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第63-64页 |
