| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 光催化半导体简介 | 第12-14页 |
| 1.1.1 光催化原理 | 第12-13页 |
| 1.1.2 影响光催化剂活性的因素 | 第13-14页 |
| 1.1.3 半导体本身性质的影响 | 第14页 |
| 1.1.4 外在因素 | 第14页 |
| 1.2 含铋氧化物光催化剂概述 | 第14-16页 |
| 1.2.1 含铋氧化物光催化剂 | 第14-16页 |
| 1.2.2 含铋氧化物光催化剂的结构特点 | 第16页 |
| 1.2.3 铋类半导体光催化剂的发展趋势 | 第16页 |
| 1.3 光催化剂钒酸铋 | 第16-18页 |
| 1.3.1 钒酸铋(BiVO4)的晶体结构 | 第16-17页 |
| 1.3.2 钒酸铋粉体的制备 | 第17页 |
| 1.3.3 钒酸铋粉体的研究现状以及所面临的问题 | 第17页 |
| 1.3.4 制备BiVO4(0k0)薄膜 | 第17-18页 |
| 1.4 本课题的研究内容及意义 | 第18-21页 |
| 参考文献 | 第21-26页 |
| 第二章 实验方法与表征 | 第26-32页 |
| 2.1 样品的制备 | 第26-28页 |
| 2.1.1 实验所需试剂与仪器设备 | 第26页 |
| 2.1.2 样品合成方法 | 第26-28页 |
| 2.2 样品表征 | 第28-30页 |
| 2.2.1 晶体结构 | 第28页 |
| 2.2.2 形貌表征 | 第28-29页 |
| 2.2.3 共焦激光拉曼 | 第29页 |
| 2.2.4 紫外-可见光吸收光谱 | 第29页 |
| 2.2.5 X射线光电子能谱 | 第29-30页 |
| 参考文献 | 第30-32页 |
| 第三章 衬底温度、不同比例靶材对样品的影响 | 第32-50页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 实验样品制备 | 第32页 |
| 3.3 样品数据分析 | 第32-46页 |
| 3.3.1 晶体结构分析 | 第32-35页 |
| 3.3.2 STEM分析 | 第35-36页 |
| 3.3.3 拉曼分析 | 第36-37页 |
| 3.3.4 晶体形貌分析 | 第37-39页 |
| 3.3.5 Uv-vis | 第39-40页 |
| 3.3.6 XPS | 第40-42页 |
| 3.3.7 光催化性能 | 第42-44页 |
| 3.3.8 Ag的原位生长和Ag在钒酸铋特定晶面薄膜上的光沉积 | 第44-46页 |
| 3.4 小结 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 第四章 形貌随时间的演化 | 第50-58页 |
| 4.1 引言 | 第50页 |
| 4.2 样品制备 | 第50页 |
| 4.3 样品表征 | 第50-54页 |
| 4.3.1 晶体结构分析 | 第50-51页 |
| 4.3.2 紫外可见光吸收 | 第51-52页 |
| 4.3.3 表面形貌 | 第52-54页 |
| 4.3.4 光催化性能 | 第54页 |
| 4.4 小结 | 第54-56页 |
| 参考文献 | 第56-58页 |
| 第五章 结论与展望 | 第58-60页 |
| 5.1 结论 | 第58页 |
| 5.2 展望 | 第58-60页 |
| 硕士期间发表论文和参加的会议 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |