CeO2抛光液的制备研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 1 前言 | 第8-26页 |
| 1.1 抛光液种类 | 第8页 |
| 1.2 CeO_2抛光液的概况及现状 | 第8-10页 |
| 1.3 CeO_2抛光液组成 | 第10-16页 |
| 1.3.1 氧化铈抛光粉 | 第10-14页 |
| 1.3.2 分散介质 | 第14页 |
| 1.3.3 悬浮分散剂 | 第14-15页 |
| 1.3.4 pH调节剂 | 第15-16页 |
| 1.3.5 氧化剂 | 第16页 |
| 1.3.6 其它添加剂 | 第16页 |
| 1.4 混合粉和复合粉抛光液 | 第16-18页 |
| 1.5 粉体团聚问题及其解决 | 第18-20页 |
| 1.5.1 分散机制 | 第18-19页 |
| 1.5.2 包覆机理 | 第19页 |
| 1.5.3 分散技术概述 | 第19-20页 |
| 1.5.4 CeO_2团聚现象的控制 | 第20页 |
| 1.6 粉体再分散问题 | 第20-21页 |
| 1.7 CeO_2抛光液的抛光机理 | 第21-24页 |
| 1.7.1 抛光过程中的物理作用 | 第22-23页 |
| 1.7.2 抛光过程中的化学作用 | 第23页 |
| 1.7.3 CeO_2浆料化学机械抛光机理 | 第23-24页 |
| 1.8 选题依据及研究内容 | 第24-26页 |
| 1.8.1 选题依据 | 第24页 |
| 1.8.2 研究内容 | 第24-26页 |
| 2 材料与方法 | 第26-34页 |
| 2.1 实验材料及仪器 | 第26-27页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第26-27页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第27页 |
| 2.2 抛光液及原料的制备 | 第27-32页 |
| 2.2.1 氧化饰抛光粉的制备 | 第27-29页 |
| 2.2.2 分散剂ASH的制备 | 第29页 |
| 2.2.3 CeO_2抛光液的制备 | 第29-32页 |
| 2.3 表征手段 | 第32-34页 |
| 2.3.1 悬浮性表征手段 | 第32-33页 |
| 2.3.2 再分散性表征手段 | 第33-34页 |
| 3 结果与讨论 | 第34-52页 |
| 3.1 抛光液性能的影响因素探究 | 第35-46页 |
| 3.1.1 分散剂种类和浓度的对抛光液性能的影响 | 第35-39页 |
| 3.1.2 分散介质对抛光液性能的影响 | 第39-41页 |
| 3.1.3 pH值对悬浮性的影响 | 第41-42页 |
| 3.1.4 分散方式对悬浮性的影响 | 第42页 |
| 3.1.5 分散时间对悬浮性的影响 | 第42-43页 |
| 3.1.6 搅拌速率对悬浮性的影响 | 第43-44页 |
| 3.1.7 制备温度对悬浮性的影响 | 第44页 |
| 3.1.8 分散剂复配对悬浮性的影响 | 第44-46页 |
| 3.2 抛光液板结现象的消除 | 第46-48页 |
| 3.2.1 聚丙烯酰胺对板结的影响 | 第47页 |
| 3.2.2 高分子羧甲基纤维素钠对板结的影响 | 第47-48页 |
| 3.3 抛光液配方性能的讨论 | 第48-52页 |
| 3.3.1 对配方分散性的探究实验 | 第49-50页 |
| 3.3.2 对配方磨粒选择性的探究实验 | 第50-52页 |
| 4 结论 | 第52-53页 |
| 5 展望 | 第53-54页 |
| 6 参考文献 | 第54-60页 |
| 7 攻读硕士期间论文发表情况 | 第60-61页 |
| 8 致谢 | 第61页 |
