| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 1 绪论 | 第8-24页 |
| 1.1 多孔硅概述 | 第8-11页 |
| 1.1.1 多孔硅发展历程 | 第8-9页 |
| 1.1.2 多孔硅应用前景 | 第9-11页 |
| 1.2 多孔硅制备方法 | 第11-14页 |
| 1.2.1 电化学法 | 第11-12页 |
| 1.2.2 化学刻蚀法 | 第12-13页 |
| 1.2.3 高频放电腐蚀法 | 第13页 |
| 1.2.4 多孔硅发光性能的改进 | 第13-14页 |
| 1.3 多孔硅产生机理与发光机制 | 第14-19页 |
| 1.3.1 多孔硅产生机理 | 第14-17页 |
| 1.3.2 多孔硅发光机制 | 第17-19页 |
| 1.4 多孔硅的表征 | 第19-22页 |
| 1.4.1 表面形貌的表征 | 第19-21页 |
| 1.4.2 光致发光光谱 | 第21-22页 |
| 1.5 本论文主要研究内容 | 第22-24页 |
| 2 多孔硅的制备与测试 | 第24-30页 |
| 2.1 实验材料 | 第24-25页 |
| 2.2 实验装置 | 第25页 |
| 2.3 实验步骤 | 第25-27页 |
| 2.3.1 材料清洗 | 第25-26页 |
| 2.3.2 样品制备 | 第26-27页 |
| 2.4 实验结果测试方法 | 第27-28页 |
| 2.4.1 光致发光检测 | 第27-28页 |
| 2.4.2 表面形貌表征 | 第28页 |
| 2.5 注意事项 | 第28-30页 |
| 3 实验结果分析 | 第30-47页 |
| 3.1 刻蚀溶液浓度对样品形貌及其 PL 特性的影响 | 第30-32页 |
| 3.2 刻蚀时间对样品形貌及 PL 特性的影响 | 第32-35页 |
| 3.3 刻蚀电流密度对样品形貌及 PL 特性的影响 | 第35-47页 |
| 3.3.1 恒定电流条件下所制备样品的特性与分析 | 第35-37页 |
| 3.3.2 渐变电流条件下所制备样品的特性与分析 | 第37-47页 |
| 4 总结 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-52页 |
| 附录 A 实验装置实物图 | 第52-53页 |
| 附录 B 样品光致发光效果 | 第53-55页 |
| 个人简历 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56页 |