摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-26页 |
1.1 纳滤膜概述 | 第10-11页 |
1.2 纳滤膜的主要传质机理和理论模型 | 第11-15页 |
1.2.1 非平衡热力学模型 | 第11-12页 |
1.2.2 溶解-扩散模型 | 第12-13页 |
1.2.3 立体阻碍-细孔模型(SHP模型) | 第13页 |
1.2.4 电荷模型 | 第13-14页 |
1.2.5 Donnan平衡模型 | 第14-15页 |
1.2.6 Donnan位阻模型(DSPM模型) | 第15页 |
1.3 纳滤膜的制备方法 | 第15-19页 |
1.3.1 相转化法 | 第15-16页 |
1.3.2 共混法 | 第16页 |
1.3.3 自组装法 | 第16页 |
1.3.4 复合法 | 第16-19页 |
1.4 纳滤膜的表面改性方法 | 第19-21页 |
1.4.1 物理改性 | 第19页 |
1.4.2 化学改性 | 第19-21页 |
1.5 卤水镁锂分离 | 第21-22页 |
1.5.1 卤水镁锂分离简介 | 第21页 |
1.5.2 纳滤法用于卤水镁锂分离 | 第21-22页 |
1.6 论文选题和研究思路 | 第22-26页 |
第2章 实验部分 | 第26-36页 |
2.1 实验材料与仪器 | 第26-27页 |
2.1.1 实验原料 | 第26-27页 |
2.1.2 实验仪器 | 第27页 |
2.2 膜分离性能的测定 | 第27-30页 |
2.2.1 膜分离性能评价设备 | 第27-29页 |
2.2.2 膜分离性能评价参数 | 第29-30页 |
2.2.3 模拟卤水分离性能的测试 | 第30页 |
2.3 复合纳滤膜的表征方法 | 第30-36页 |
2.3.1 全反射傅里叶红外光谱(ATR-FTIR) | 第30-31页 |
2.3.2 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第31页 |
2.3.3 扫描电镜(SEM) | 第31页 |
2.3.4 原子力显微镜(AFM) | 第31-32页 |
2.3.5 固体表面Zeta电位仪 | 第32页 |
2.3.6 接触角测量仪 | 第32页 |
2.3.7 糖类水溶液浓度的测定 | 第32-33页 |
2.3.8 盐类水溶液浓度的测定 | 第33-34页 |
2.3.9 模拟卤水中离子浓度的测定 | 第34-36页 |
第3章 二元胺改性聚酰胺复合纳滤膜的制备 | 第36-50页 |
3.1 引言 | 第36页 |
3.2 二元胺改性聚醚酰亚胺基复合纳滤膜的制备 | 第36-37页 |
3.2.1 PEI超滤膜的制备 | 第36页 |
3.2.2 二元胺改性PEI基复合纳滤膜的制备 | 第36-37页 |
3.3 复合膜分离性能的测试 | 第37-43页 |
3.3.1 不同二元胺对复合纳滤膜纯水通量的影响 | 第37-39页 |
3.3.2 PIP和CHDA浓度对复合纳滤膜的影响 | 第39页 |
3.3.3 TMC浓度对PIP改性的复合纳滤膜的影响 | 第39-40页 |
3.3.4 PIP改性复合纳滤膜对无机盐的分离 | 第40-41页 |
3.3.5 PIP改性复合纳滤膜的耐污染性能测试 | 第41-43页 |
3.4 表征与讨论 | 第43-47页 |
3.4.1 ATR-FTIR表征 | 第43页 |
3.4.2 XPS表征 | 第43-44页 |
3.4.3 SEM表征 | 第44-46页 |
3.4.4 AFM表征 | 第46-47页 |
3.4.5 接触角表征 | 第47页 |
3.5 本章小结 | 第47-50页 |
第4章 应用于镁锂分离的EDTA改性荷正电复合纳滤膜初步研究 | 第50-66页 |
4.1 引言 | 第50页 |
4.2 实验部分 | 第50-51页 |
4.2.1 PEI超滤膜的制备 | 第50页 |
4.2.2 荷正电复合纳滤膜的制备 | 第50-51页 |
4.2.3 EDTA改性荷正电复合纳滤膜的制备 | 第51页 |
4.2.4 截留分子量和孔径分布测试 | 第51页 |
4.3 复合纳滤膜的分离性能 | 第51-56页 |
4.3.1 BPEI分子量对复合纳滤膜分离性能的影响 | 第51-52页 |
4.3.2 BPEI浓度对复合纳滤膜分离性能的影响 | 第52-53页 |
4.3.3 EDTA浓度对复合纳滤膜分离性能的影响 | 第53-54页 |
4.3.4 EDTA改性复合纳滤膜的稳定性测试 | 第54页 |
4.3.5 EDTA改性复合纳滤膜对不同组成的模拟卤水的分离 | 第54-55页 |
4.3.6 EDTA改性复合纳滤膜对无机盐的分离 | 第55-56页 |
4.4 表征与讨论 | 第56-63页 |
4.4.1 ATR-FTIR表征 | 第56-57页 |
4.4.2 XPS表征 | 第57-59页 |
4.4.3 SEM表征 | 第59-60页 |
4.4.4 AFM表征 | 第60-61页 |
4.4.5 截留分子量和孔径分布 | 第61-62页 |
4.4.6 接触角表征 | 第62页 |
4.4.7 Zeta电位分析 | 第62-63页 |
4.5 小结 | 第63-66页 |
第5章 结论和展望 | 第66-68页 |
5.1 结论 | 第66页 |
5.2 展望 | 第66-68页 |
参考文献 | 第68-78页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第78-80页 |
致谢 | 第80-81页 |