| 中文摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 背景 | 第10-11页 |
| 1.2 透明导电薄膜的分类 | 第11-13页 |
| 1.2.1 金属薄膜 | 第11页 |
| 1.2.2 透明导电氧化物(TCO)薄膜 | 第11-12页 |
| 1.2.3 叠层透明导电薄膜 | 第12-13页 |
| 1.2.4 化合物透明导电膜 | 第13页 |
| 1.2.5 纳米结构 | 第13页 |
| 1.3 透明导电薄膜的应用 | 第13-15页 |
| 1.3.1 触摸屏 | 第13-14页 |
| 1.3.2 显示器 | 第14页 |
| 1.3.3 太阳能电池 | 第14页 |
| 1.3.4 智能窗 | 第14-15页 |
| 1.3.5 气敏传感器 | 第15页 |
| 1.4 NiO透明导电薄膜的研究现状 | 第15-16页 |
| 1.5 研究依据和实验思路 | 第16-18页 |
| 1.5.1 研究依据 | 第16页 |
| 1.5.2 实验思路 | 第16-18页 |
| 第二章 薄膜生长制备及测试方法 | 第18-28页 |
| 2.1 薄膜生长技术 | 第18-19页 |
| 2.1.1 化学气相沉积(CVD) | 第18页 |
| 2.1.2 物理气相沉积镀膜(PVD) | 第18-19页 |
| 2.2 溅射镀膜的基本过程 | 第19-20页 |
| 2.2.1 直流磁控溅射 | 第19-20页 |
| 2.2.2 射频磁控溅射 | 第20页 |
| 2.3 磁控溅射系统 | 第20-21页 |
| 2.4 薄膜制备过程 | 第21-23页 |
| 2.4.1 衬底清洗 | 第21-22页 |
| 2.4.2 靶材的安装 | 第22页 |
| 2.4.3 测定溅射速率 | 第22页 |
| 2.4.4 镀膜过程 | 第22-23页 |
| 2.5 薄膜检测方法 | 第23-28页 |
| 2.5.1 可见光区域透过率的检测 | 第23页 |
| 2.5.2 薄膜面电阻、电阻率的检测 | 第23-24页 |
| 2.5.3 X射线衍射(XRD)检测 | 第24-25页 |
| 2.5.4 原子力显微镜(AFM)检测 | 第25-26页 |
| 2.5.5 模拟可见光区域透过率计算 | 第26页 |
| 2.5.6 载流子浓度测量 | 第26-28页 |
| 第三章 NiO/Al/NiO叠层透明导电薄膜的光电特性 | 第28-40页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 实验方法 | 第28-29页 |
| 3.3 光学特性 | 第29-34页 |
| 3.3.1 NiO层厚度对NiO(t)/Al(12nm)/NiO(t)叠层膜的实验透过率的影响 | 第29-30页 |
| 3.3.2 Al层厚度对NiO(40nm)/Al(t)/NiO(40nm)叠层膜的实验透过率的影响 | 第30-32页 |
| 3.3.3 NiO层厚度对NiO(t)/Al(12nm)/NiO(t)薄膜的模拟透过率影响 | 第32-33页 |
| 3.3.4 Al层厚度对NiO(40nm)/Al(t)/NiO(40nm)薄膜的模拟透过率影响 | 第33-34页 |
| 3.3.5 NiO(t)和Ag(t)的模拟透过率 | 第34页 |
| 3.4 电学特性 | 第34-36页 |
| 3.4.1 NiO厚度对NiO(t)/Al(12nm)/NiO(t)薄膜的电学特性的影响 | 第34-35页 |
| 3.4.2 Al层厚度对NiO(40nm)/Al(t)/NiO(40nm)膜的电学特性的影响 | 第35-36页 |
| 3.5 表面形貌 | 第36-37页 |
| 3.6 薄膜结构 | 第37页 |
| 3.7 结论 | 第37-40页 |
| 第四章 NiO/Ag/NiO叠层膜的光电性能的研究 | 第40-50页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 实验方法 | 第40-41页 |
| 4.3 光学特性 | 第41-46页 |
| 4.3.1 NiO层厚度对NiO(t)/Ag(11nm)/NiO(t)叠层膜的实验透过率的影响 | 第41-42页 |
| 4.3.2 Ag层厚度对NiO(30nm)/Ag(t)/NiO(30nm)叠层膜的实验透过率的影响 | 第42-43页 |
| 4.3.3 NiO厚度对NiO(t)/Ag(11nm)/NiO(t)薄膜的模拟透过率影响 | 第43-44页 |
| 4.3.4 Ag厚度对NiO(30nm)/Ag(t)/NiO(30nm)薄膜的模拟透过率影响 | 第44-45页 |
| 4.3.5 Ag(t)的模拟透过率 | 第45-46页 |
| 4.4 电学特性 | 第46-48页 |
| 4.4.1 NiO厚度对NiO(t)/Ag(11nm)/NiO(t)薄膜的电学特性的影响 | 第46-47页 |
| 4.4.2 Ag层厚度对NiO(30nm)/Ag(t)/NiO(30nm)膜的电学特性的影响 | 第47-48页 |
| 4.5 表面形貌 | 第48页 |
| 4.6 薄膜结构 | 第48-49页 |
| 4.7 结论 | 第49-50页 |
| 第五章 全文总结与展望 | 第50-52页 |
| 5.1 论文工作总结 | 第50-51页 |
| 5.2 今后工作的建议 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-56页 |
| 攻读硕士期间发表的文章 | 第56-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
