硅胶表面分子印迹聚合物的制备及识别性能研究
摘要 | 第6-7页 |
Abstract | 第7页 |
1 绪论 | 第11-22页 |
1.1 分子印迹的起源与发展 | 第11页 |
1.2 分子印迹的原理及分类 | 第11-13页 |
1.2.1 原理 | 第11-12页 |
1.2.2 分类 | 第12-13页 |
1.3 制备分子印迹聚合物的影响因素 | 第13-16页 |
1.3.1 模板分子 | 第14页 |
1.3.2 功能单体 | 第14页 |
1.3.3 交联剂 | 第14-15页 |
1.3.4 模板分子-功能单体的比例 | 第15页 |
1.3.5 致孔剂 | 第15页 |
1.3.6 引发剂的选择 | 第15-16页 |
1.4 印迹聚合物的制备 | 第16-17页 |
1.4.1 本体聚合 | 第16页 |
1.4.2 原位聚合 | 第16页 |
1.4.3 悬浮聚合 | 第16页 |
1.4.4 沉淀聚合 | 第16-17页 |
1.4.5 表面印迹法 | 第17页 |
1.5 分子印迹技术的应用进展 | 第17-19页 |
1.5.1 化学仿生传感器 | 第17-18页 |
1.5.2 色谱分离 | 第18页 |
1.5.3 固相萃取 | 第18-19页 |
1.5.4 药物控制释放 | 第19页 |
1.5.5 膜分离 | 第19页 |
1.6 分子印迹技术现存问题 | 第19-20页 |
1.7 本课题的研究内容及意义 | 第20-22页 |
2 实验部分 | 第22-28页 |
2.1 仪器与试剂 | 第22-24页 |
2.1.1 仪器 | 第22-23页 |
2.1.2 试剂 | 第23-24页 |
2.2 表面印迹法制备加替沙星分子印迹聚合物 | 第24-25页 |
2.2.1 硅胶表面改性 | 第24页 |
2.2.2 聚合条件的选择 | 第24页 |
2.2.3 加替沙星印迹聚合物制备 | 第24页 |
2.2.4 印迹材料的表征和性能评价 | 第24-25页 |
2.3 表面印迹法制备氧化苦参碱印迹聚合物 | 第25-26页 |
2.3.1 硅胶表面改性 | 第25页 |
2.3.2 氧化苦参碱印迹聚合物制备 | 第25页 |
2.3.3 印迹聚合物静态吸附测定 | 第25-26页 |
2.3.4 印迹聚合物动态吸附测定 | 第26页 |
2.3.5 印迹聚合物选择性吸附的测定 | 第26页 |
2.4 表面印迹法制备生物碱类双模板印迹聚合物 | 第26-28页 |
2.4.1 硅胶的活化、烷基化和酰化 | 第26页 |
2.4.2 聚合条件优化 | 第26页 |
2.4.3 双模板印迹聚合物的制备 | 第26-27页 |
2.4.4 聚合物的吸附性能 | 第27-28页 |
3 结果与讨论 | 第28-43页 |
3.1 硅胶表面加替沙星印迹聚合物的性能评价 | 第28-35页 |
3.1.1 表面印迹识别原理 | 第28-29页 |
3.1.2 功能单体的选择 | 第29页 |
3.1.3 模板分子与功能单体比例的选择 | 第29-30页 |
3.1.4 红外谱图表征 | 第30-31页 |
3.1.5 扫描电镜 | 第31页 |
3.1.6 MIP 吸附等温线 | 第31-34页 |
3.1.7 MIP 选择性吸附 | 第34-35页 |
3.1.8 MIP 吸附重现性 | 第35页 |
3.2 硅胶表面氧化苦参碱印迹聚合物的性能评价 | 第35-37页 |
3.2.1 印迹聚合物静态吸附性能 | 第35页 |
3.2.2 印迹聚合物动态吸附性能 | 第35-36页 |
3.2.3 印迹聚合物选择性吸附性能 | 第36-37页 |
3.3 硅胶表面双模板印迹聚合物的性能评价 | 第37-43页 |
3.3.1 聚合溶剂的选择 | 第37-38页 |
3.3.2 模板分子与功能单体比例的选择 | 第38-39页 |
3.3.3 MIP 静态吸附性能 | 第39-40页 |
3.3.4 双模板分子印迹聚合物结合位点分布 | 第40页 |
3.3.5 双模板分子印迹聚合物的交互作用 | 第40-41页 |
3.3.6 MIP 的吸附再生性能 | 第41-43页 |
结论 | 第43-44页 |
参考文献 | 第44-48页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第48-49页 |
致谢 | 第49-50页 |