| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-21页 |
| 1.1 能源现状 | 第9-10页 |
| 1.2 选择性吸收涂层 | 第10-15页 |
| 1.2.1 选择性吸收涂层原理 | 第11-12页 |
| 1.2.2 选择性吸收涂层的分类 | 第12-14页 |
| 1.2.3 选择性吸收涂层的选择 | 第14-15页 |
| 1.3 TiN薄膜简介 | 第15-16页 |
| 1.4 TiO_2薄膜简介 | 第16-17页 |
| 1.5 选择性吸收涂层的制备方法 | 第17-18页 |
| 1.6 选择性吸收涂层的研究现状 | 第18-20页 |
| 1.7 本课题研究内容和意义 | 第20-21页 |
| 第2章 薄膜的制备与分析 | 第21-31页 |
| 2.1 磁控溅射技术 | 第21-24页 |
| 2.1.1 磁控溅射技术的发展及特点 | 第21-22页 |
| 2.1.2 磁控溅射镀膜原理 | 第22-23页 |
| 2.1.3 反应磁控溅射 | 第23页 |
| 2.1.4 反应磁控溅射中的“靶中毒” | 第23-24页 |
| 2.2 实验介绍 | 第24-25页 |
| 2.2.1 实验设备 | 第24页 |
| 2.2.2 实验材料 | 第24-25页 |
| 2.2.3 实验技术路线 | 第25页 |
| 2.3 实验步骤 | 第25-27页 |
| 2.4 薄膜结构性能分析 | 第27-30页 |
| 2.4.1 表面形貌分析 | 第27-28页 |
| 2.4.2 物相分析 | 第28-29页 |
| 2.4.3 光学性能分析 | 第29-30页 |
| 2.4.4 厚度分析 | 第30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-31页 |
| 第3章 减反层TiO_2薄膜的沉积及性能分析 | 第31-46页 |
| 3.1 不同氧气流量对TiO_2薄膜的影响 | 第31-37页 |
| 3.1.1 氧气流量对TiO_2薄膜晶向取向的影响 | 第32页 |
| 3.1.2 氧气流量对TiO_2薄膜沉积速率的影响 | 第32-33页 |
| 3.1.3 氧气流量对TiO_2薄膜表面形貌的影响 | 第33-35页 |
| 3.1.4 氧气流量对TiO_2薄膜光学性能的影响 | 第35-37页 |
| 3.2 不同压强对TiO_2薄膜的影响 | 第37-46页 |
| 3.2.1 溅射气压对TiO_2薄膜晶向取向的影响 | 第37-38页 |
| 3.2.2 溅射气压对TiO_2薄膜沉积速率的影响 | 第38-39页 |
| 3.2.3 溅射气压对TiO_2薄膜表面形貌的影响 | 第39-41页 |
| 3.2.4 溅射气压对TiO_2薄膜光学性能的影响 | 第41-46页 |
| 第4章 吸收层TiN薄膜的沉积及性能分析 | 第46-52页 |
| 4.1 氮气流量对TiN薄膜晶向取向的影响 | 第46-47页 |
| 4.2 氮气流量对TiN薄膜沉积速率的影响 | 第47-48页 |
| 4.3 氮气流量对TiN薄膜表面形貌的影响 | 第48-50页 |
| 4.4 氮气流量对TiN薄膜光学性能的影响 | 第50-52页 |
| 第5章 多层膜的沉积及性能分析 | 第52-58页 |
| 5.1 Al膜的制备 | 第52-53页 |
| 5.2 Ti-TiN-TiO_2/Al多层膜的制备 | 第53-56页 |
| 5.2.1 不同TiN沉积时间条件下Ti-TiN-TiO_2/Al的光学性能 | 第54-56页 |
| 5.3 最优条件下Ti-TiN-TiCVAl的性能分析 | 第56-58页 |
| 第6章 结论与展望 | 第58-60页 |
| 6.1 减反层TiO_2薄膜 | 第58-59页 |
| 6.2 吸收层TiN薄膜 | 第59页 |
| 6.3 Ti-TiN-TiO_2多层膜 | 第59页 |
| 6.4 不足与展望 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 攻读学位期间研究成果 | 第66页 |
