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射频LDMOS功率晶体管的特性研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6页
第一章 绪论第9-14页
    1.1 射频LDMOS的发展历程与应用第9-10页
    1.2 射频LDMOS器件的研究意义第10-12页
    1.3 本论文主要工作第12-14页
第二章 射频LDMOS晶体管特性与结构设计第14-34页
    2.1 射频LDMOS晶体管基础第14-16页
    2.2 射频LDMOS基本特性第16-20页
        2.2.1 开态特性第16-18页
        2.2.2 击穿特性第18-20页
        2.2.3 频率特性第20页
    2.3 工艺制备流程第20-21页
    2.4 器件结构仿真设计第21-30页
        2.4.1 阈值电压优化第22-24页
        2.4.2 LDD区优化第24-27页
        2.4.3 法拉第罩优化第27-30页
    2.5 改进的RF LDMOS结构第30-33页
    2.6 本章小结第33-34页
第三章 射频LDMOS晶体管特性测试第34-45页
    3.1 元胞基本特性测试第34-39页
    3.2 Loadpull测试第39-42页
    3.3 TLP测试第42-43页
    3.4 封装测试第43-44页
    3.5 本章小结第44-45页
第四章 射频LDMOS晶体管建模第45-62页
    4.1 场效应晶体管模型及其应用第45-46页
    4.2 小信号模型第46-55页
        4.2.1 小信号等效电路模型第46-48页
        4.2.2 模型参数提取第48-54页
        4.2.3 模型参数优化第54-55页
    4.3 大信号模型探讨第55-61页
        4.3.1 非线性电流模型第56-59页
        4.3.2 非线性电容模型第59-60页
        4.3.3 LDMOS大信号模型在ADS中实现第60-61页
    4.4 本章小结第61-62页
第五章 结论第62-64页
致谢第64-65页
参考文献第65-68页
攻读硕士期间取得的研究成果第68-69页

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