摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第9-20页 |
1.1 微流控荧光检测 | 第9-10页 |
1.1.1 微流控荧光检测的特点 | 第9页 |
1.1.2 微流控荧光检测原理 | 第9-10页 |
1.2 微透镜阵列的研究现状 | 第10-18页 |
1.2.1 微透镜材料 | 第10页 |
1.2.2 微透镜阵列制作方法 | 第10-18页 |
1.3 目前存在的问题 | 第18页 |
1.4 本文的主要研究内容 | 第18-20页 |
2 微透镜阵列的结构设计 | 第20-25页 |
2.1 基本原理 | 第20-24页 |
2.1.1 费马原理 | 第20页 |
2.1.2 双球面微透镜的物像关系 | 第20-21页 |
2.1.3 平凸微透镜的物像关系 | 第21-23页 |
2.1.4 折射微透镜单元的设计 | 第23-24页 |
2.1.5 微透镜阵列的光能利用率 | 第24页 |
2.2 本章小结 | 第24-25页 |
3 微透镜阵列制备 | 第25-46页 |
3.1 实验设备与材料 | 第25页 |
3.2 PDMS微透镜阵列的制作流程 | 第25-28页 |
3.3 结果与讨论 | 第28-45页 |
3.3.1 光刻胶圆柱阵列 | 第28-31页 |
3.3.2 光刻胶热熔工艺的研究 | 第31-38页 |
3.3.3 PDMS微透镜阵列模具的均一性分析 | 第38-40页 |
3.3.4 PDMS微透镜阵列的性能检测 | 第40-44页 |
3.3.5 制造过程中透镜尺寸的变化 | 第44-45页 |
3.4 本章小结 | 第45-46页 |
4. 基于微透镜阵列的微流控芯片荧光增强检测 | 第46-54页 |
4.1 实验设备及材料 | 第46页 |
4.2 集成有微透镜阵列的微流控芯片制作流程 | 第46-48页 |
4.2.1 微通道模具的制作 | 第47页 |
4.2.2 基片制作及芯片封合 | 第47-48页 |
4.3 实验平台 | 第48-49页 |
4.4 结果与讨论 | 第49-53页 |
4.4.1 荧光强度与物质浓度的关系 | 第49-51页 |
4.4.2 微透镜阵列充填因子对检测荧光强度的影响 | 第51-52页 |
4.4.3 荧光强度随微透镜直径的变化 | 第52-53页 |
4.5 本章小结 | 第53-54页 |
5 结论与展望 | 第54-56页 |
5.1 结论 | 第54-55页 |
5.2 展望 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-60页 |
攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第60-61页 |
致谢 | 第61-62页 |