摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6页 |
第1章 绪论 | 第9-14页 |
1.1 课题研究背景和意义 | 第9-11页 |
1.2 国内外发展现状及趋势 | 第11-12页 |
1.2.1 国外表面精整技术发展现状 | 第11页 |
1.2.2 国内表面精整技术发展现状 | 第11-12页 |
1.3 本文研究的主要内容 | 第12-13页 |
1.4 论文研究内容和安排 | 第13-14页 |
第2章 电化学工艺介绍 | 第14-20页 |
2.1 电解金属离子工艺介绍 | 第14-17页 |
2.1.1 电化学基本原理介绍 | 第14-16页 |
2.1.2 法拉第电解定律 | 第16-17页 |
2.2 电化学工艺在ECM CLASSIC中的运用 | 第17-19页 |
2.2.1 电化学在ECM CLASSIC中的基本应用 | 第17-18页 |
2.2.2 ECM CLASSIC中电化学工艺加工的设计 | 第18-19页 |
2.3 本章小结 | 第19-20页 |
第3章 电化学工艺控制系统的整体设计方案 | 第20-24页 |
3.1 实现ECM CLASSIC电化学工艺的基本结构的设计 | 第20页 |
3.2 ECM CLASSIC电化学工艺机床的系统结构与逻辑顺序设计 | 第20-22页 |
3.3 本章小结 | 第22-24页 |
第4章 信号采集单元的选型和与外部单元的连接和设计 | 第24-34页 |
4.1 电导率传感器的选型和设计 | 第24-29页 |
4.1.1 电导率传感器的基本概念 | 第24页 |
4.1.2 电导率传感器的基本分类 | 第24-25页 |
4.1.3 电导率传感器的选型 | 第25-27页 |
4.1.4 电导率传感器CTI500与外部单元的连接和设计 | 第27-29页 |
4.2 pH传感器的选型和设计 | 第29-33页 |
4.2.1 pH传感器的基本概念和分类 | 第29页 |
4.2.2 pH传感器的工作原理 | 第29-31页 |
4.2.3 pH传感器与外部单元连接与设计 | 第31-33页 |
4.3 本章小结 | 第33-34页 |
第5章 气路及逻辑控制单元的选型和设计 | 第34-43页 |
5.1 主气缸逻辑动作的气路和电路设计 | 第34-39页 |
5.1.1 主气缸气路的基本设置 | 第34-35页 |
5.1.2 主气缸气路上的可靠性分析和完善 | 第35-38页 |
5.1.3 主气缸的电路设计 | 第38-39页 |
5.2 电解液循环过滤单元气路和电路设计 | 第39-41页 |
5.2.1 电解液循环过滤的分析和选型 | 第39-40页 |
5.2.2 电解液循环过滤单元的气路和电路设计 | 第40-41页 |
5.3 本章小结 | 第41-43页 |
第6章 人机界面的设计及外部通讯 | 第43-49页 |
6.1 人机界面的设计和外界通讯设置 | 第43-44页 |
6.2 外部传感器在人机界面上的参数显示和设置 | 第44-46页 |
6.2.1 温度、电导率和pH传感器在人机界面上的参数显示设置和界面设计 | 第44-46页 |
6.2.2 pH传感器在人机界面上的参数显示设置和界面设计 | 第46页 |
6.3 自动模式下机床动作的逻辑顺序与人机界面的设计 | 第46-48页 |
6.4 本章小结 | 第48-49页 |
第7章 ECM-CLASSIC电化学加工机床的功能及加工效果测试 | 第49-58页 |
7.1 主气缸上下动作测试 | 第49-50页 |
7.2 信号采集单元的功能测试检查 | 第50-52页 |
7.3 自动加工模式测试 | 第52-55页 |
7.4 ECM-CLASSIC电化学机床加工效果测试 | 第55-57页 |
7.5 本章小结 | 第57-58页 |
第8章 总结与展望 | 第58-60页 |
8.1 总结 | 第58页 |
8.2 研究展望 | 第58-60页 |
参考文献 | 第60-63页 |
致谢 | 第63页 |