| 摘要 | 第4-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 第1章 绪论 | 第14-40页 |
| 1.1 引言 | 第14-15页 |
| 1.2 WO_3的基本性质及应用 | 第15-21页 |
| 1.2.1 WO_3的结构和性质 | 第15-16页 |
| 1.2.2 WO_3的制备 | 第16-17页 |
| 1.2.3 WO_3的应用及研究进展 | 第17-21页 |
| 1.3 金刚石的基本性质及应用 | 第21-27页 |
| 1.3.1 金刚石的结构和性质 | 第21-22页 |
| 1.3.2 金刚石的制备方法 | 第22-24页 |
| 1.3.3 硼掺杂金刚石（BDD）的应用 | 第24-27页 |
| 1.4 WO_3和金刚石复合结构的研究进展 | 第27-28页 |
| 1.5 本文的选题背景和研究内容 | 第28-30页 |
| 参考文献 | 第30-40页 |
| 第2章 合成制备与表征、测试设备 | 第40-50页 |
| 2.1 脉冲激光沉积设备（PLD） | 第40-42页 |
| 2.2 热丝化学气相沉积（HF-CVD）装置 | 第42-43页 |
| 2.3 水热反应釜 | 第43页 |
| 2.4 主要表征设备 | 第43-47页 |
| 2.4.1 X-射线衍射仪（X-ray diffraction，XRD） | 第43-44页 |
| 2.4.2 X-射线光电子能谱仪（X-ray photoelectron spectroscopy，XPS）312.4.3 扫描电子显微镜（Scanning electron microscope，SEM） | 第44页 |
| 2.4.3 扫描电子显微镜（Scanning electron microscope，SEM） | 第44页 |
| 2.4.4 透射电子显微镜（Transmission electron microscope，TEM） | 第44页 |
| 2.4.5 原子力显微镜（Atomic force microscope，AFM） | 第44-45页 |
| 2.4.6 紫外-可见分光光度计（Ultraviolet–visible spectroscopy，UV-Vis） | 第45页 |
| 2.4.7 拉曼光谱（Raman spectroscopy） | 第45-46页 |
| 2.4.8 高功率数字源表 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-50页 |
| 第3章 TiO_2掺杂氧化钨膜的制备及电致变色性能的研究 | 第50-72页 |
| 3.1 引言 | 第50-51页 |
| 3.2 实验部分 | 第51-53页 |
| 3.2.1 脉冲激光沉积靶材的制备 | 第51页 |
| 3.2.2 Ti O2掺杂氧化钨膜的制备 | 第51-52页 |
| 3.2.3 电致变色测试 | 第52-53页 |
| 3.3 实验结果与分析 | 第53-65页 |
| 3.3.1 WO_3膜的AFM、SEM和EDX表征 | 第53-57页 |
| 3.3.2 WO_3膜的电致变色过程 | 第57-60页 |
| 3.3.3 WO_3膜电致变色的原理分析 | 第60-63页 |
| 3.3.4 WO_3膜电致变色的效果分析 | 第63-65页 |
| 3.4 本章小结 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 第4章 Au-金刚石电极的制备及电化学性能的研究 | 第72-88页 |
| 4.1 引言 | 第72-73页 |
| 4.2 实验过程 | 第73-75页 |
| 4.2.1 实验试剂 | 第73页 |
| 4.2.2 CVD硼掺杂金刚石膜的制备 | 第73-74页 |
| 4.2.3 BDD膜表面修饰 | 第74-75页 |
| 4.2.4 电化学生物传感器测试 | 第75页 |
| 4.3 实验结果与分析 | 第75-83页 |
| 4.3.1 金纳米颗粒修饰BDD薄膜结构分析 | 第75-81页 |
| 4.3.2 金纳米颗粒修饰的BDD薄膜电化学性能分析 | 第81-83页 |
| 4.4 本章小结 | 第83-84页 |
| 参考文献 | 第84-88页 |
| 第5章n-WO_3 NRs/p-diamond异质结制备及高温电学性质 | 第88-110页 |
| 5.1 引言 | 第88页 |
| 5.2 实验过程 | 第88-91页 |
| 5.2.1 CVD硼掺杂金刚石膜的制备 | 第88-89页 |
| 5.2.2 WO_3籽晶层的制备 | 第89页 |
| 5.2.3 水热法制备WO_3纳米棒 | 第89-90页 |
| 5.2.4 n-WO_3 NRs/p-diamond异质结器件的制备 | 第90-91页 |
| 5.2.5 高温下异质结电流-电压（I-V）测试 | 第91页 |
| 5.3 实验结果与分析 | 第91-105页 |
| 5.3.1 硼掺杂金刚石膜形貌分析 | 第91-92页 |
| 5.3.2 BDD膜上生长WO_3纳米棒的过程（SEM和Mapping元素分析） | 第92-95页 |
| 5.3.3 n-WO_3纳米棒TEM、EDX和XPS分析 | 第95-98页 |
| 5.3.4 n-WO_3 NRs/p-diamond异质结的XRD分析 | 第98-99页 |
| 5.3.5 n-WO_3 NRs/p-diamond异质结高温下的电学性质 | 第99-100页 |
| 5.3.6 n-WO_3 NRs/p-diamond异质结高温电学参数计算与分析 | 第100-105页 |
| 5.4 本章小结 | 第105-106页 |
| 参考文献 | 第106-110页 |
| 第6章 结论 | 第110-112页 |
| 发表文章情况 | 第112-113页 |
| 作者简历 | 第113-114页 |
| 致谢 | 第114页 |
