| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 微光像增强器技术的发展 | 第8-11页 |
| 1.1.1 微光像增强器技术的历史背景 | 第8-9页 |
| 1.1.2 微光像增强器技术的国内外现状 | 第9-10页 |
| 1.1.3 微通道板的工作原理 | 第10-11页 |
| 1.2 三代微光防离子反馈膜技术 | 第11-14页 |
| 1.2.1 防离子反馈膜的发展 | 第11-13页 |
| 1.2.2 防离子反馈膜的制备技术 | 第13-14页 |
| 1.3 本文的主要研究内容及意义 | 第14-16页 |
| 第二章 电子与固体相互作用的基本原理 | 第16-24页 |
| 2.1 电子与固体相互作用的基本模型 | 第16-17页 |
| 2.2 电子射程与能损 | 第17-18页 |
| 2.3 二次电子发射 | 第18-24页 |
| 2.3.1 二次电子发射系数 | 第18页 |
| 2.3.2 二次电子发射过程 | 第18-19页 |
| 2.3.3 二次电子发射系数的影响因素 | 第19-21页 |
| 2.3.4 二次电子发射普适公式 | 第21-24页 |
| 第三章 防离子反馈膜的电子透射率测试及模拟分析 | 第24-41页 |
| 3.1 防离子反馈膜电子透过率测量系统设计 | 第24-25页 |
| 3.1.1 防离子反馈膜电子透射率测量原理 | 第24页 |
| 3.1.2 防离子反馈膜电子透射率测量系统 | 第24-25页 |
| 3.2 防离子反馈膜电子透过率测量实验 | 第25-26页 |
| 3.2.1 测试步骤 | 第25页 |
| 3.2.2 测试结果分析 | 第25-26页 |
| 3.3 电子透过率的模拟分析 | 第26-31页 |
| 3.3.1 模拟软件的选择 | 第26-27页 |
| 3.3.2 模拟流程设计与计算 | 第27-31页 |
| 3.3.3 电子透射特性模拟 | 第31页 |
| 3.4 模拟结果分析 | 第31-39页 |
| 3.4.1 不同入射能量对电子透射率的Casino模拟 | 第31-34页 |
| 3.4.2 不同膜层厚度对电子透射率的影响 | 第34-35页 |
| 3.4.3 不同膜层密度对电子透射率的影响 | 第35-37页 |
| 3.4.4 不同材料的电子透射率对比 | 第37-39页 |
| 3.5 模拟结果与实验结果的对比 | 第39-40页 |
| 3.6 本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 二次电子发射对防离子反馈膜透射性能的影响 | 第41-48页 |
| 4.1 防离子反馈膜二次电子发射性能模拟分析 | 第41-43页 |
| 4.1.1 不同入射能量对SiO_2透射率的影响 | 第41-42页 |
| 4.1.2 不同入射能量对Al_2O_3透射率的影响 | 第42-43页 |
| 4.2 二次电子发射对透射电子的贡献率 | 第43-46页 |
| 4.2.1 防离子反馈膜表面二次电子透过率分析 | 第43-44页 |
| 4.2.2 二次电子射程分析计算 | 第44-45页 |
| 4.2.3 影响二次电子从膜层逸出的因素 | 第45-46页 |
| 4.3 防离子反馈膜电子透射率的修正 | 第46-47页 |
| 4.4 本章小结 | 第47-48页 |
| 结论 | 第48-49页 |
| 致谢 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-52页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文及参与的科研项目 | 第52页 |