| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1.课题的研究背景 | 第10页 |
| 1.2.VO_2材料研究现状 | 第10-15页 |
| 1.3.相变原因和相变前后结构变化 | 第15-18页 |
| 1.3.1.相变原因 | 第15-16页 |
| 1.3.2.相变前后结构变化的性质 | 第16-18页 |
| 1.4.课题主要研究的内容 | 第18-20页 |
| 第二章 VO_2纳米材料制备原理和测试方法 | 第20-28页 |
| 2.1.气相沉积 | 第20-21页 |
| 2.2.纳米材料制备原理 | 第21-24页 |
| 2.3.纳米薄膜制备原理 | 第24-25页 |
| 2.4.尾气处理 | 第25页 |
| 2.5.表征测试方法 | 第25-28页 |
| 2.5.1.金相显微镜 | 第25-26页 |
| 2.5.2.扫描电子显微镜（ScanningElectronMicroscope） | 第26-27页 |
| 2.5.3.晶体结构分析（X-RayDiffraction） | 第27-28页 |
| 第三章 VO_2纳米材料制备及其形貌结构分析 | 第28-44页 |
| 3.1.制备纳米线 | 第28-33页 |
| 3.1.1.二氧化钒作为反应源 | 第28-29页 |
| 3.1.2.以三氧化二钒（V2O3）为反应源 | 第29-30页 |
| 3.1.3.以五氧化二钒为反应源 | 第30-33页 |
| 3.2.薄膜制备 | 第33-34页 |
| 3.3.纳米线及纳米薄膜的形貌和结构分析 | 第34-43页 |
| 3.3.1.纳米线形貌和结构分析 | 第34-39页 |
| 3.3.2.纳米薄膜形貌和结构分析 | 第39-41页 |
| 3.3.3.纳米线和纳米薄膜的结构分析 | 第41-43页 |
| 3.4.本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 VO_2纳米材料器件制备工艺 | 第44-64页 |
| 4.1.实验方案 | 第44页 |
| 4.2.光刻工艺 | 第44-52页 |
| 4.2.1.衬底处理 | 第45页 |
| 4.2.2.涂胶 | 第45-47页 |
| 4.2.3.前烘（软烘） | 第47-48页 |
| 4.2.4.曝光 | 第48页 |
| 4.2.5.后烘（PEB） | 第48页 |
| 4.2.6.显影 | 第48-49页 |
| 4.2.7.坚膜 | 第49-50页 |
| 4.2.8.显影检查 | 第50-51页 |
| 4.2.9.实验中碰到的问题 | 第51-52页 |
| 4.3.金属沉积工艺 | 第52-56页 |
| 4.3.1.薄膜蒸镀的过程应注意的问题 | 第54-55页 |
| 4.3.2.图形化蓝宝石衬底和光滑衬底在蒸镀过程中的差别 | 第55-56页 |
| 4.4.剥离工艺 | 第56-61页 |
| 4.4.1.剥离工艺参数控制 | 第58页 |
| 4.4.2.VO_2纳米薄膜的电极制备 | 第58-61页 |
| 4.5.本章小结 | 第61-64页 |
| 第五章 VO_2纳米线和纳米薄膜的性能测试 | 第64-70页 |
| 5.1.纳米线和纳米薄膜电学和光学测试系统 | 第64-65页 |
| 5.2.纳米线和纳米薄膜的电学和光学特性 | 第65-69页 |
| 5.3.本章小结 | 第69-70页 |
| 第六章总结 | 第70-72页 |
| 6.1.总结 | 第70-71页 |
| 6.2.展望 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
