软X射线全息平焦场光栅的研制
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| ·引言 | 第12页 |
| ·软x射线平焦场光栅谱仪 | 第12-19页 |
| ·软x射线平焦场光栅谱仪的国内外应用现状 | 第13-17页 |
| ·平场光谱仪的像散矫正 | 第17页 |
| ·平场光谱仪的标定 | 第17-18页 |
| ·平场光谱仪的超分辨率重构技术 | 第18-19页 |
| ·软x射线平焦场光栅的发展现状 | 第19-21页 |
| ·选题意义与内容安排 | 第21-24页 |
| 第二章 软x射线平焦场光栅的优化设计 | 第24-44页 |
| ·引言 | 第24页 |
| ·软x射线平焦场光栅的优化设计理论 | 第24-30页 |
| ·凹面消像差光栅的像差理论 | 第24-26页 |
| ·曝光光路设计 | 第26-28页 |
| ·光线追迹 | 第28-30页 |
| ·应用于0.8-6 nm的软×射线平焦场光栅设计 | 第30-43页 |
| ·线密度优化 | 第31-37页 |
| ·制作光路优化 | 第37-41页 |
| ·光栅槽型结构设计 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第三章 软x射线平场光谱仪的光谱分辨率研究 | 第44-64页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·光谱分辨率的表征方式 | 第44-49页 |
| ·分区光栅 | 第49-55页 |
| ·软x射线平焦场光栅成像特性 | 第49-51页 |
| ·考虑光栅衍射效率的光线追迹模型 | 第51-52页 |
| ·分区光栅的设计 | 第52-55页 |
| ·软x射线平焦场光栅的条纹弯曲及其光谱成像弯曲 | 第55-61页 |
| ·软x射线平焦场光栅的条纹弯曲现象 | 第55-57页 |
| ·条纹弯曲对光谱分辨率的影响 | 第57-58页 |
| ·光栅条纹弯曲的调整及其对光谱分辨率的改善 | 第58-61页 |
| ·利用柱面反射镜制作的分区光栅 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-64页 |
| 第四章 全息平焦场光栅的制作 | 第64-94页 |
| ·引言 | 第64页 |
| ·曝光光路搭建误差分析 | 第64-70页 |
| ·全息平焦场光栅的制作工艺 | 第70-82页 |
| ·光栅条纹对比度调整 | 第71-75页 |
| ·曝光中的调制 | 第75-77页 |
| ·光刻胶掩模占宽比的调整 | 第77-78页 |
| ·全息平焦场光栅的刻蚀 | 第78-82页 |
| ·变间距光栅的线密度测量 | 第82-91页 |
| ·基于位相片的变间距光栅线密度测量系统 | 第82-84页 |
| ·线密度测量系统误差分析 | 第84-89页 |
| ·软x射线全息平焦场光栅的线密度分布测量 | 第89-91页 |
| ·采用的柱面反射镜的记录光路 | 第91-93页 |
| ·本章小结 | 第93-94页 |
| 第五章 近场全息曝光制作全息平焦场的相关问题研究 | 第94-106页 |
| ·引言 | 第94页 |
| ·近场全息制作变间距光栅 | 第94-101页 |
| ·近场全息中的线密度转移 | 第95-97页 |
| ·近场全息中线密度转移误差的修正 | 第97-98页 |
| ·用于近场全息的变间距掩模版设计 | 第98-101页 |
| ·电子束光刻制作光栅掩模的相关分析 | 第101-105页 |
| ·本章小结 | 第105-106页 |
| 第六章 总结与展望 | 第106-108页 |
| ·论文的工作总结 | 第106-107页 |
| ·论文的主要创新点 | 第107页 |
| ·展望 | 第107-108页 |
| 参考文献 | 第108-116页 |
| 致谢 | 第116-117页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第117-118页 |
