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同步辐射X射线显微成像的新方法和新技术

摘要第1-7页
Abstract第7-9页
目录第9-12页
第一章 绪论第12-22页
   ·X射线成像发展概述第13-15页
   ·X射线成像基本原理第15-17页
   ·本论文课题研究意义第17-18页
   ·本文主要研究内容第18-19页
 参考文献第19-22页
第二章 同步辐射X射线显微成像方法简介第22-44页
   ·全场透射X射线显微镜第22-24页
   ·扫描透射X射线显微镜第24-25页
   ·Zernike相衬显微成像第25-28页
   ·相干X射线衍射成像第28-30页
   ·X射线全息成像第30-32页
   ·X射线荧光显微术第32-34页
   ·X射线光谱显微术第34-36页
   ·X射线光电发射电子显微镜第36-37页
 参考文献第37-44页
第三章 结构暗场显微术第44-62页
   ·暗场成像第44-46页
     ·暗场成像简介第44-45页
     ·X射线暗场成像第45-46页
   ·结构暗场X射线显微术第46-57页
     ·基本结构与原理第47-49页
     ·TXM系统光强快速计算方法第49-51页
     ·结构暗场成像系统的数值计算第51-54页
     ·可见光实验第54-57页
   ·一些讨论第57-58页
   ·本章小结第58-59页
 参考文献第59-62页
第四章 基于相位衬度的X射线元素分辨成像方法第62-82页
   ·吸收边分辨成像方法第62-65页
   ·相衬元素分辨成像第65-77页
     ·基本原理第65-66页
     ·光子数密度与信噪比第66-69页
     ·建模分析计算第69-72页
     ·模拟实验第72-75页
     ·Zernike相位衬度TXM系统像平面光强仿真模拟第75-77页
   ·一些讨论第77-78页
   ·本章小结第78-79页
 参考文献第79-82页
第五章 正负相移双金属波带片第82-98页
   ·菲涅尔波带片第82-84页
     ·波带片基本结构第82-83页
     ·波带片发展历史第83-84页
   ·正负相移双金属波带片第84-94页
     ·基本原理第84-86页
     ·一级衍射效率第86-90页
     ·正负相移双金属波带片工作能量范围第90-92页
     ·正负相移双金属波带片的加工第92-94页
   ·本章小结第94-95页
 参考文献第95-98页
第六章 总结与展望第98-100页
致谢第100-102页
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果第102页

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